[發(fā)明專利]物鏡、光拾取裝置、光記錄/再生裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910141265.2 | 申請日: | 2009-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN101581825A | 公開(公告)日: | 2009-11-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 勝間敏明;森將生;小里哲也;北原有 | 申請(專利權(quán))人: | 富士能株式會(huì)社 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G11B7/135 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 物鏡 拾取 裝置 記錄 再生 | ||
1.一種物鏡,將從光源射出的光會(huì)聚在進(jìn)行信息的記錄或再生的光記錄介質(zhì)上,其特征在于,
該物鏡由至少1個(gè)面被設(shè)為非球面的單透鏡構(gòu)成,并滿足下述條件式(1)、(2)、(6):
-0.90<R1/R2<-0.45(1)
0.70<d/f<1.40(2)
0.50<g/d<0.80(6)
此處,
R1為光源側(cè)的面的光軸附近的曲率半徑,單位為mm,
R2為光記錄介質(zhì)側(cè)的面的光軸附近的曲率半徑,單位為mm,
d為光軸上的厚度,單位為mm,
f為焦距,單位為mm,
g為從光源側(cè)的面頂點(diǎn)的垂直于光軸的切平面到透鏡的重心位置的距離,單位為mm。
2.如權(quán)利要求1所述的物鏡,其特征在于,
滿足下述條件式(3):
-40<θ1-θ2<20(3)
此處,
θ1為入射到光源側(cè)的面的最外側(cè)光線與該面的法線所成的角,單位為°,
θ2為從光記錄介質(zhì)側(cè)的面射出的最外側(cè)光線與該面的法線所成的角,單位為°。
3.如權(quán)利要求1或2所述的物鏡,其特征在于,
滿足下述條件式(4):
0.35<(n-1)Sinθ1<0.80(4)
此處,
θ1為入射到光源側(cè)的面的最外側(cè)光線與該面的法線所成的角,單位為°,
n為透鏡的折射率。
4.如權(quán)利要求1或2所述的物鏡,其特征在于,
滿足下述條件式(5):
0.25<WD?(5)
此處,
WD為工作距離,單位為mm。
5.如權(quán)利要求1或2所述的物鏡,其特征在于,
質(zhì)量被做成0.5克以下。
6.如權(quán)利要求1或2所述的物鏡,其特征在于,
上述光記錄介質(zhì)側(cè)的數(shù)值孔徑為0.70以上,0.98以下。
7.如權(quán)利要求1或2所述的物鏡,其特征在于,
上述光的波長為400.0nm以上、410.0nm以下。
8.如權(quán)利要求7所述的物鏡,其特征在于,
上述光記錄介質(zhì)側(cè)的數(shù)值孔徑為0.85以上,上述光記錄介質(zhì)的保護(hù)層的厚度為0.075mm以上、0.1mm以下。
9.如權(quán)利要求7所述的物鏡,其特征在于,
上述光記錄介質(zhì)側(cè)的數(shù)值孔徑為0.85以上,并構(gòu)成為在從上述光記錄介質(zhì)的表面進(jìn)入該光記錄介質(zhì)的內(nèi)部t1mm的位置處波面像差的RMS最小,上述t1為0.075mm以上、0.1mm以下。
10.一種光拾取裝置,其特征在于,
具備權(quán)利要求1至9中的任一項(xiàng)所述的物鏡。
11.一種光記錄/再生裝置,其特征在于,
搭載權(quán)利要求10所述的光拾取裝置。
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