[發明專利]坐標檢測裝置

有效

• 申請號: 200910140577.1
• 申請日: 2009-05-08
• 公開（公告）號: CN101582005A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發明（設計）人: 近藤幸一
• 申請（專利權）人: 富士通電子零件有限公司
• 主分類號: G06F3/045
• 分類號: G06F3/045
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 黨建華

技術領域

本發明涉及一種坐標檢測裝置。

背景技術

觸摸面板例如已經用作用于計算機系統的輸入裝置。安裝在顯示器上的觸摸面板可檢測顯示器上的坐標位置，并且得到與坐標位置相對應的檢測信號。觸摸面板允許數據的直接、容易、及直觀輸入。

已經提出有各種類型的觸摸面板，如電阻型、光學型、及電容耦合型觸摸面板。主要使用具有簡單結構和控制系統的電阻觸摸面板。作為電阻觸摸面板，依據在電阻膜上電極的排列，有四-導線型、五-導線型、八-導線型觸摸面板等。

在這些中，在五-導線型觸摸面板中，在操作表面側上提供的頂部基片的導電膜被簡單地只用于讀出電位，這與四-導線型和八-導線型電阻觸摸面板不同。因而，五-導線型觸摸面板不具有邊緣滑動的問題，邊緣滑動是四-導線型和八-導線型觸摸面板的缺陷。因此，五-導線型觸摸面板已經用于在嚴酷使用環境中或長時間上要求耐久性的市場中。

圖12是五-導線型電阻觸摸面板的構造圖。五-導線型電阻觸摸面板1由頂部基片11和底部基片12形成。作為底部基片12，透明電阻膜22形成在玻璃基片21的整個表面上。在透明電阻膜22上，形成X-軸坐標檢測電極23和24、和Y-軸坐標檢測電極25和26。作為頂部基片11，透明電阻膜32形成在膜基片31上。坐標檢測電極33形成在透明電阻膜32上。

首先，通過將電壓施加到X-軸坐標檢測電極23和24上，在底部基片12的透明電阻膜22的X-軸方向上產生電位分布。在這時，通過檢測底部基片12的透明電阻膜22的電位，可檢測底部基片12與頂部基片11的接觸位置的X-坐標。其次，通過將電壓施加到Y-軸坐標檢測電極25和26上，在底部基片12的透明電阻膜22中Y-軸方向上產生電位分布。在這時，通過檢測底部基片12的透明電阻膜22的電位，可檢測底部基片12與頂部基片11的接觸位置的Y-坐標。

在這種情況下，在這樣一種類型的觸摸面板中，有在底部基片12的透明電阻膜22中如何產生均勻電位分布的問題。為了在底部基片12的透明電阻膜22中產生均勻電位分布，一種在周緣中提供多級電位分布校正圖案的方法公開在專利文件1中。

另外，專利文件2公開了一種將共用電極提供成圍繞輸入表面的周緣的方法。專利文件3公開了一種在透明電阻膜上提供的絕緣膜中形成開口和通過開口施加電位的方法。

專利文件1：日本專利申請公報No.10-83251

專利文件2：日本專利申請公報No.2001-125724

專利文件3：日本專利申請公報No.2007-25904

響應坐標輸入裝置安裝到其上的裝置的尺寸減小等，要求坐標輸入裝置在框架尺寸方面較窄。然而，一直難以用較窄框架形成專利文件1中公開的坐標輸入裝置，因為在周緣中必須提供多級電位分布圖案。

況且，通過如專利文件2中公開的那樣提供圍繞輸入表面周緣的共用電極的方法，已經有如下問題：透明電阻膜的電位分布成為不均勻的，除非增大在透明電阻膜與圖案電阻之間的電阻比值。

此外，盡管上述兩個問題可通過如專利文件3中公開的那樣在形成的絕緣膜中提供開口的方法而解決，但制造過程在這種情況下變得復雜。具體地說，已經有如下一些情形：在制造過程中引起的材料和電阻值的變化，成為降低希望產品性能的生產率的因素。

發明內容

鑒于以上情況已經形成本發明，并且本發明可以提供一種坐標檢測裝置，該坐標檢測裝置能夠形成有較窄框架，并且改進坐標位置的檢測精度。

根據本發明的一個方面，坐標檢測裝置包括：電阻膜，形成在基片上；和共用電極，形成在電阻膜上，用來將電壓施加到電阻膜上。坐標檢測裝置構造成通過將電壓從共用電極施加到電阻膜上而在電阻膜中產生電位分布，并且構造成通過檢測電阻膜接觸位置的電位而檢測電阻膜接觸位置的坐標。基片由正方形形狀的絕緣體形成。共用電極沿基片的邊緣部分形成。在共用電極下方的電阻膜具有其中電阻膜不存在的一個或多個電阻膜缺少區域(更好的是，將這些叫做“無電阻膜區域”)。其中電阻膜不存在的L形電阻膜缺少區域提供在基片的正方形形狀的一個或多個角部中，并且在共用電極的與其中基片中心位于的側相同的側上。