[發明專利]液滴噴射裝置和液滴噴射方法有效
| 申請號: | 200910139310.0 | 申請日: | 2009-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN101734010A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 沼田學;池田宏;橋本健 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/01 | 分類號: | B41J2/01;B41J2/045;B41J2/165;B41J2/14 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴射 裝置 方法 | ||
1.一種液滴噴射裝置,該液滴噴射裝置包括:
液體噴射模塊,所述液體噴射模塊包括具有壓電元件和噴射噴嘴的 壓力腔、和將液體提供到所述壓力腔的供給通路,所述液體噴射模塊被 構成為從所述噴射噴嘴噴射通過所述供給通路而提供給所述壓力腔的液 體;
測量部,所述測量部測量施加到所述壓電元件的電壓與在施加所述 電壓時流過所述液體噴射模塊的電流之間的導納或相位差;
電阻計算部,所述電阻計算部基于所述測量部測量的所述相位差或 所述導納,計算第一等效電路中的一個電阻,所述第一等效電路表示所 述液體噴射模塊的電特性并且包括多個電阻,所述多個電阻包括所述供 給通路的電阻、所述壓力腔的電阻和所述噴射噴嘴的電阻;以及
處理部,所述處理部基于所述電阻計算部計算出的所述一個電阻來 進行用于降低并調整所述液體噴射模塊中的流體粘度的處理,
其中,所述處理部執行從以下處理中選擇的處理:預噴射所述液體 噴射模塊中的所述液體、對所述液體噴射模塊中的所述液體加壓、和推 出所述液體或者對所述液體施加吸引力,
其中:
當啟動所述液滴噴射裝置時,所述電阻計算部計算所述供給通路的 電阻,如果計算出的所述供給通路的電阻值大于第一預定值,則計算出 的所述供給通路的電阻是所述一個電阻,
如果計算出的所述供給通路的電阻值小于所述第一預定值,則計算 所述壓力腔的電阻,如果計算出的所述壓力腔的電阻值大于第二預定值, 則計算出的所述壓力腔的電阻是所述一個電阻,
如果計算出的所述壓力腔的電阻值小于所述第二預定值,則所述噴 射噴嘴的電阻是所述一個電阻;并且
所述處理部使用滿足下式的預噴射或吸引的液體量來進行處理:
v1<v2<v3,
其中,v1表示當由所述電阻計算部計算為所述一個電阻的電阻是所 述供給通路的電阻時的液體量,v2表示當由所述電阻計算部計算為所述 一個電阻的電阻是所述壓力腔的電阻時的液體量,v3表示當由所述電阻 計算部計算為所述一個電阻的電阻是所述噴射噴嘴的電阻時的液體量。
2.根據權利要求1所述的液滴噴射裝置,其中,
所述多個電阻分別對應于形成第二等效電路的多個聲阻,所述多個 聲阻表示所述液體噴射模塊的聲學特性,并且是根據所述供給通路、所 述壓力腔和所述噴射噴嘴中的流體粘度的各個大小而確定的。
3.根據權利要求1所述的液滴噴射裝置,其中,所述電阻計算部將 所述一個電阻計算為其中測量值與理論值之差的平方總和等于或小于預 定閾值的電阻,
所述測量值表示在施加各自具有不同頻率的多個電壓時所述測量部 測量到的各個頻率的導納或各個頻率的相位差,并且
所述理論值表示與基于所述第一等效電路確定的多個頻率對應的各 個頻率的理論導納或理論相位差。
4.根據權利要求1所述的液滴噴射裝置,其中,所述電阻計算部使 用作為峰值的相位差或導納來計算所述一個電阻。
5.根據權利要求1所述的液滴噴射裝置,其中,所述電阻計算部在 施加預定頻率的電壓時計算所述一個電阻。
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