[發(fā)明專利]光電編碼器的光柵尺有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910137722.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101566485A | 公開(公告)日: | 2009-10-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 富永淳;神野大 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社三豐 |
| 主分類號(hào): | G01D5/34 | 分類號(hào): | G01D5/34 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 彭久云 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 編碼器 光柵尺 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光電編碼器的光柵尺(scale)。
背景技術(shù)
光電編碼器的光柵尺粗略地分為振幅光柵尺和相位光柵尺。振幅光柵尺 具有高反射率光柵和低反射率光柵以一定節(jié)距設(shè)置的構(gòu)造。在光電編碼器 中,用光照射光柵尺,并且與該光柵尺的相對(duì)位置由高反射率光柵和低反射 率光柵之間的光反射差確定。
高反射率光柵由諸如金(Au)、鋁(Al)和鉻(Cr)的金屬構(gòu)成,而低 反射率光柵取決于其光學(xué)原理由各種材料或者基于各種結(jié)構(gòu)構(gòu)成。
對(duì)于背景信息,參見例如,日本未審查專利申請(qǐng)公開No.2000-18973和 日本未審查專利申請(qǐng)公開No.2008-45931。
發(fā)明內(nèi)容
低反射率光柵通?;谥T如吸收、反射、干涉和散射的光學(xué)原理,并且 其與光柵尺基底的關(guān)系希望滿足要求:例如,(1)防止在薄膜中產(chǎn)生應(yīng)力, (2)防止在處理光柵材料期間損害基底,(3)在高溫和高濕度的條件下抗 腐蝕(抗氧化(銹蝕)),以及(4)保證平面內(nèi)的均勻度。具體地講,當(dāng)薄 金屬片(金屬帶)用作基底從而長的光柵尺可以卷起(卷成卷)時(shí),這些要 求變得更加嚴(yán)格。
例如,基底為不銹鋼(SUS)的已知光柵尺需要表面涂敷或者表面處理 以改善抗銹蝕性,并且因此使制造工藝復(fù)雜并增加制造成本。此外,這樣的 表面涂敷和表面處理所必然導(dǎo)致的光學(xué)性質(zhì)對(duì)采用編碼器的光檢測沒有影 響。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供一種光電編碼器的光柵尺,光電編碼器檢 測落入預(yù)定波長范圍的光的反射。光柵尺包括:基底;吸光層,包括形成在 基底的至少一個(gè)表面上的DLC(類金剛石碳)層;以及反光層,對(duì)落入預(yù)定 波長范圍的光具有比吸光層更高的反射率,并且在吸光層上形成為光柵。
該構(gòu)造使得能夠由被反光層構(gòu)成的光柵和具有暴露的吸光層的另一個(gè) 光柵反射的光來確定關(guān)于光柵尺的相對(duì)位置。
具體地講,包含在吸光層中的化學(xué)穩(wěn)定和機(jī)械耐久的DLC層保護(hù)基底, 并因此用作對(duì)腐蝕、銹蝕和破裂的阻擋,并且同時(shí)保證吸光層的功能。
此外,DLC層單獨(dú)為基底提供保護(hù)膜,并且用作吸光層,由此簡化了制 造工藝,并降低了制造成本。同樣,DLC層在成膜工藝中厚度易于控制。當(dāng) 金屬用作反光層時(shí),DLC層還保護(hù)基底不受用于通過金屬蝕刻形成光柵的蝕 刻劑導(dǎo)致的損壞。
同時(shí),在其上形成有反光層的基底表面上,DLC層的厚度優(yōu)選在250nm 至1μm的范圍。具體地講,當(dāng)考慮DLC層的內(nèi)部應(yīng)力時(shí),其厚度優(yōu)選為400nm 或者更小。這樣的膜厚會(huì)保證一致的反射率不受DLC層的膜厚變化的影響, 并且保證通過用作對(duì)腐蝕、銹蝕和破裂的阻擋而充分保護(hù)基底。
另外,DLC層優(yōu)選形成基底的整個(gè)表面上。這樣的形成在基底整個(gè)表面 上的DLC層能夠保護(hù)基底在基底的整個(gè)表面上免受腐蝕、銹蝕和破裂。
同樣,為了實(shí)現(xiàn)對(duì)基底的更好的附著性,吸光層優(yōu)選具有在基底和DLC 層之間的至少包含金屬的粘合劑層。例如,粘合劑層優(yōu)選至少包含鎢、碳化 鎢、鉻和鈦之一。此外,例如,當(dāng)粘合劑層包含碳化鎢時(shí),碳和鎢的相對(duì)比 例優(yōu)選沿著厚度的方向變化。在此情況下,優(yōu)選提供碳化鎢層,其中碳的含 量隨著距基底的距離的增加以及距DLC層的距離的減少而增加。
同樣,吸光層優(yōu)選對(duì)落入前述的預(yù)定波長范圍的光表現(xiàn)出等于或者低于 20%的反射率。DLC層使得這樣的吸光層對(duì)落入可見范圍內(nèi)的光表現(xiàn)出等于 或者低于20%的反射率,并且與具有較高反射率的反光層組合時(shí),提供適用 于光電編碼器的光柵尺。
本發(fā)明提供光電編碼器的光柵尺,其中具有DLC層的吸光層有效地保 護(hù)基底免受腐蝕、銹蝕和破裂。
附圖說明
圖1示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的光電編碼器的光柵尺的構(gòu)造;
圖2是示出DLC膜的膜厚與DLC膜的反射率之間關(guān)系的圖;
圖3A-3C示出DLC膜形成在基底的整個(gè)表面上的第二實(shí)施例;
圖4示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的制造光電編碼器的光柵尺的方法。
具體實(shí)施方式
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光電編碼器的光柵尺100如圖1所示,具有基底10、 吸光層12和反光層14。圖1示出了光柵尺100的表面的放大圖,并且光柵 尺100的形狀為最長邊在圖1的水平方向上延伸。同樣,圖1示出了夸大的 單個(gè)構(gòu)件,以使光柵尺100的構(gòu)造易于理解。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社三豐,未經(jīng)株式會(huì)社三豐許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910137722.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01D 非專用于特定變量的測量;不包含在其他單獨(dú)小類中的測量兩個(gè)或多個(gè)變量的裝置;計(jì)費(fèi)設(shè)備;非專用于特定變量的傳輸或轉(zhuǎn)換裝置;未列入其他類目的測量或測試
G01D5-00 用于傳遞傳感構(gòu)件的輸出的機(jī)械裝置;將傳感構(gòu)件的輸出變換成不同變量的裝置,其中傳感構(gòu)件的形式和特性不限制變換裝置;非專用于特定變量的變換器
G01D5-02 .采用機(jī)械裝置
G01D5-12 .采用電或磁裝置
G01D5-26 .采用光學(xué)裝置,即應(yīng)用紅外光、可見光或紫外光
G01D5-42 .采用流體裝置
G01D5-48 .采用波或粒子輻射裝置





