[發明專利]曝光機及其曝光方法有效
| 申請號: | 200910135831.9 | 申請日: | 2009-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN101876784A | 公開(公告)日: | 2010-11-03 |
| 發明(設計)人: | 呂金水;鐘政學 | 申請(專利權)人: | 翊暉科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03B27/16 | 分類號: | G03B27/16;G03B27/26;G03B27/10 |
| 代理公司: | 北京申翔知識產權代理有限公司 11214 | 代理人: | 周春發;艾晶 |
| 地址: | 中國臺灣桃園縣楊*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 及其 方法 | ||
技術領域
本發明有關一種曝光機的曝光顯影技術,旨在提供一種較不會產生聚熱現象,且相對可以降低設備體積及成本的曝光機,以其與其相關的曝光方法。
背景技術
按,一般印刷電路板或半導體芯片在進行曝光顯影制程時,先在被加工物表面上涂上一層光阻,再藉由光源的照射將原稿上的電路布線圖案映像至被加工物表面的光阻層上,以使光阻層的化學性質因光源的照射而產生變化,然后再利用去光阻劑來將被光源照射過的光阻或未經曝光的光阻自被加工物表面去除,以形成對應于原稿的線路布局。
其中,用以執行曝光顯影加工制程的曝光機基本結構如圖1所示,主要具有一由機殼11構成的曝光室12,以及設有一可相對進出曝光室12的曝光平臺13,而且至少在該曝光室12內部相對應于曝光平臺13的上方或下方位置,設有一光源組14;請同時參照圖2所示,該曝光平臺13為一供放置被加工物20與原稿(圖略)的透明平臺,整體曝光平臺13并藉由一組線性滑軌15進出曝光室12。
該曝光平臺13連同被加工物及原稿進入曝光室12至定位之后,一般必須在曝光室12內部停留一段時間(約3~5秒不等)使被加工物接受光源組14的曝光光源照射,待完成曝光之后再由曝光平臺13將被加工物送出。
由于,一般習用曝光機多采用曝光平臺13停滯在曝光室12內部的方式進行曝光作業,因此該光源組14并必須具有大量采用數組配置方式的燈泡141,方得以形成足以涵蓋整個曝光平臺13的平行光源;然而,在大量燈泡141同時運作下,將使機殼11內部產生嚴重的聚熱現象,需另外用水冷系統散熱,致使設備成本偏高。
另有一種習用曝光機透過復眼裝置將燈泡的光線修正為所需的平行光及面積大小,其動作方式乃讓光源燈泡透過橢圓鏡將光線利用一組第一反射鏡投向復眼裝置使其光線均勻化,再利用一組第二反射鏡將光線改變前進方向,最后利用一組凸透鏡將光線修正為所需的平行光及面積大小,進而投射出所須的曝光光源,并藉以減少燈泡的數量。
然而,如次此的設計將使整體曝光機的結構趨于復雜,且整體曝光機的體機亦相對更趨龐大;尤其,必須使用大瓦數的燈泡,一般大瓦數燈泡的壽命相當短,不但增加燈泡的更換頻率,無形的中生產成本亦相對增加。
發明內容
有鑒于此,本發明的主要目的即在提供一種較不會產生聚熱現象,且相對可以降低設備體積及成本的曝光機,以及與其相關的曝光方法。
為達上揭目的,本發明的曝光機在一機臺上設有至少一曝光平臺,以及設有一輸送機組用以帶動該至少一曝光平臺相對進出機臺的曝光室,該曝光室內部至少在相對應于該曝光平臺的移動行程上方或下方位置設有一曝光光源組,在該曝光光源組外部有一出光罩;另外,設有一組控制電路供設定、整合該輸送機組與該曝光光源組以及該出光罩的運作。
其中,該出光罩在其相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設有一長條狀的透光槽,另設有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否,待曝光光源組的光源(本實施例為燈泡)啟動時,其光源可透過該出光罩的透光槽向外照射,使產生朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源;再配合輸送機組帶動該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受條狀光源的照射,進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
具體而言,本發明的曝光機至少在其曝光室內部相對應于曝光平臺移動行程上方或下方位置,產生一朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源;再配該曝光平臺以預定速度與該條狀光源相對位移的方式接受該條狀光源的照射,進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
俾可大幅減少整體曝光機的燈泡配置數量,故可相對縮減整體曝光機的體積,降低設備成本,以及降低曝光室的聚熱現象;尤其,適合采用連續循環輸送的方式,讓曝光平臺依序通過曝光室,藉以提升曝光機的加工產能。
附圖說明
圖1為一習用曝光機的結構剖視圖;
圖2為一習用曝光機的曝光平臺外觀立體圖;
圖3為本發明的曝光機外觀立體圖;
圖4為本發明曝光機的曝光室內部結構立體圖;
圖5為本發明中設于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源組外觀結構圖;
圖6為本發明中設于該曝光平臺移動行程上方位置的曝光光源組放大示意圖;
圖7為本發明中設于該曝光平臺移動行程下方位置的曝光光源組及出光罩的外觀結構圖;
圖8為本發明中設于該曝光平臺移動行程下方位置的曝光光源組及出光罩的放大示意圖;
圖9為本發明中設于該曝光平臺移動行程下方位置的出光罩結構分解圖;
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