[發明專利]曝光機及其曝光方法有效
| 申請號: | 200910135831.9 | 申請日: | 2009-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN101876784A | 公開(公告)日: | 2010-11-03 |
| 發明(設計)人: | 呂金水;鐘政學 | 申請(專利權)人: | 翊暉科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03B27/16 | 分類號: | G03B27/16;G03B27/26;G03B27/10 |
| 代理公司: | 北京申翔知識產權代理有限公司 11214 | 代理人: | 周春發;艾晶 |
| 地址: | 中國臺灣桃園縣楊*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 及其 方法 | ||
1.一種曝光機,其特征在于,包括有:
一機臺,具有一由機殼所包圍構成的曝光室;
至少一曝光平臺,為供固定被加工物及原稿的透明平臺;
一輸送機組,用以帶動該至少一曝光平臺相對進出該機臺的曝光室;
至少一曝光光源組,設在該曝光室內部相對于該曝光平臺的移動行程上方或下方位置,每一組曝光光源組具有若干光源用以產生曝光光源;
至少一出光罩,設在該至少一曝光光源組外部,其在相對朝向該曝光平臺移動行程的部位設有一長條狀的透光槽,另設有一活動遮光板控制該透光槽開啟與否;
一控制電路,供設定、整合該輸送機組、該至少一曝光光源組以及該活動遮光板的運作;以及,
該曝光光源組的燈泡啟動時,其光源可透過該出光罩的透光槽向外照射,使產生朝向該曝光平臺移動行程照射的條狀光源;再配合該輸送機組帶動該曝光平臺以預定速度與該出光罩相對位移的方式接受該條狀光源的照射,使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
2.如權利要求1所述的曝光機,其特征在于,在該曝光平臺的移動行程上方與下方位置皆設有一曝光光源組。
3.如權利要求1所述的曝光機,其特征在于,該該機殼在相對于該瀑光室的外圍設有散熱排風口及至少一循環入風口,并且在該至少一循環入風口處設有濾網。
4.如權利要求1所述的曝光機,其特征在于,該輸送機組具有一組橫向延伸配置于該機臺的曝光室內、外區域的線性滑軌供承載該曝光平臺,設有一皮帶供與該曝光平臺連接,以及設有一馬達用以帶動該皮帶運轉。
5.如權利要求1所述的曝光機,其特征在于,該活動遮光板與該出光罩之間連接有至少一動力缸,由該至少一動力缸帶動該活動遮光板與該出光罩相對位移,進而控制該透光槽關閉或開啟。
6.如權利要求1所述的曝光機,其特征在于,該控制電路具有一設在機臺上的觸控屏幕供設定相關動作參數,以及在該機臺相對于該曝光平臺的移動行程處設有至少一感應開關用以感測該曝光平臺的相對位置。
7.如權利要求1所述的曝光機,其特征在于,該至少一曝光光源組的各燈泡呈沿著該出光罩的透光槽直線排列,并且設有一組反光鏡用以將燈泡的光線投向該出光罩的透光槽。
8.如權利要求7所述的曝光機,其特征在于,該至少一曝光光源組的各燈泡以2°夾角朝向光線照射方向偏擺的方式配置,該光源為燈泡或LED光源。
9.一種曝光機的曝光方法,其特征在于,首先在曝光機的曝光室內部產生至少一自曝光平臺移動行程上方,或是自曝光平臺移動行程下方朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源;再配讓曝光機的曝光平臺以預定速度與該至少一條狀光源相對位移的方式接受該至少一條狀光源的照射,進而使該曝光平臺上的被加工物完成曝光顯影。
10.如權利要求9所述曝光機的曝光方法,其特征在于,在曝光機的曝光室內部相對于曝光平臺移動行程上方與下方位置,皆產生有朝向曝光平臺移動行程照射的條狀光源,該光源可為燈泡或LED光源。
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