[發明專利]定位系統、光刻設備和器件制造方法

有效

• 申請號: 200910134805.4
• 申請日: 2009-04-09
• 公開（公告）號: CN101561642A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: H·巴特勒;M·A·W·蘇吉皮爾斯;C·A·胡根達姆;R·J·M·德瓊;M·J·M·林肯斯;M·W·M·范德威吉斯特;M·W·J·E·威吉克曼斯;R·L·吐圣恩;R·P·H·法森;A·H·考沃埃特斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王新華

技術領域

本發明涉及一種定位系統、光刻設備和制造器件的方法。

背景技術

光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上(通常是襯底的目標部分 上)的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這 種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形 成在所述IC的單層上的電路圖案。可以將該圖案轉移到襯底(例如，硅 晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通 常，圖案的轉移是通過把圖案成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕 劑)層上而進行的。通常，單獨的襯底將包含被連續形成圖案的相鄰目標 部分的網絡。公知的光刻設備包括：所謂步進機，在所述步進機中，通過 將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂 掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所 述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一 個目標部分。也可能通過將圖案壓印(imprinting)到襯底的方式從圖案形 成裝置將圖案轉移到襯底上。

圖2公開一種用以定位臺WT的定位系統PW，臺WT通過平面電動 機能夠在例如真空室3內移動。平面電動機包括定子2和傳送器(translator) 35，用以在至少X、Y和Rz方向上定位臺WT，并且如果需要也可以在Z、 Rx和Ry方向上定位臺WT。粗定位機構(平面電動機)在X、Y和Rz 方向上的反作用力被傳遞到第一平衡質量塊6。第一平衡質量塊6可以在 支承件5上移動，支承件5允許第一平衡質量塊6相對于基板BP在X、 Y和Rz方向上移動，而不允許相對于基板BP在Z、Rx和Ry方向上移動， 也就是剛性耦合。在精定位機構1的所有自由度上的反作用力被施加在傳 送器35上并且被傳遞給第一平衡質量塊6。第一平衡質量塊6的質心和載 物臺WT的質心在Z方向上處于不同位置，所述Z方向垂直于X和Y方 向。質心位置不同的結果在于，當平面電動機將沿X和/或Y方向的水平 力施加到載物臺WT時，在第一平衡質量塊6中產生分別圍繞Y和/或X 軸線的扭矩。因為平衡質量塊6在Rx和Ry方向上是通過支承件5剛性耦 合到基板BP，因此，這個扭矩被傳遞到基板BP。該扭矩會引起基板BP 內的振動，這惡化了定位系統的功能或惡化了使用所述定位系統的光刻設 備的功能。

發明內容

本發明旨在提供一種定位系統，在所述定位系統中由從平衡質量塊傳 遞到基板的扭矩引起的振動被最小化。

在根據本發明的實施例中，提供一種用于定位支撐件的定位系統，包 括：第一致動器，其構建成施加致動力到所述支撐件上，所述第一致動器 耦合到第一平衡質量塊，該第一平衡質量塊構造并配置成吸收由所述第一 致動器產生的所述致動力導致的反作用力；以及控制器和第二致動器，所 述控制器和第二致動器構造并配置成施加補償力，以補償由所述第一致動 器施加在所述第一平衡質量塊上的所述致動力引起的扭矩。

在本發明的實施例中，提供一種光刻設備，其包括：構建成調節輻射 束的照射系統；構造成支撐圖案形成裝置的圖案形成裝置支撐件，所述圖 案形成裝置能夠將圖案在所述輻射束的橫截面上賦予到所述輻射束以形 成圖案化的輻射束；構造成保持襯底的襯底支撐件；構建成將所述圖案化 的輻射束投影到所述襯底的目標部分上的投影系統；和定位系統，其構造 并配置成定位至少一個所述支撐件，所述定位系統包括第一致動器以及控 制器和第二致動器，所述第一致動器構建成施加致動力到所述支撐件上， 所述第一致動器耦合到構造并配置成吸收由所述第一致動器產生的所述 致動力導致的反作用力的第一平衡質量塊，所述控制器和第二致動器構造 并配置成施加補償力，以補償由所述第一致動器施加在所述第一平衡質量 塊上的所述致動力引起的扭矩。

在本發明的另一實施例中，提供一種器件制造方法，包括：在襯底支 撐件上提供至少部分由輻射敏感材料層覆蓋的襯底；在圖案形成裝置支撐 件上提供圖案形成裝置；將圖案化的輻射束投影到所述輻射敏感材料層 上；和定位至少一個所述支撐件，所述定位的步驟包括：在第一平衡質量 塊和所述支撐件之間施加第一作用力，所述第一作用力相對于所述第一平 衡質量塊移動所述支撐件；和可控制地施加第二作用力，以補償由所述第 一平衡質量塊的質心位置和所述支撐件的質心位置的不同引起的扭矩。

附圖說明