[發明專利]定位系統、光刻設備和器件制造方法

有效

• 申請號: 200910134805.4
• 申請日: 2009-04-09
• 公開（公告）號: CN101561642A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: H·巴特勒;M·A·W·蘇吉皮爾斯;C·A·胡根達姆;R·J·M·德瓊;M·J·M·林肯斯;M·W·M·范德威吉斯特;M·W·J·E·威吉克曼斯;R·L·吐圣恩;R·P·H·法森;A·H·考沃埃特斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王新華

1.一種用于定位支撐件的定位系統，包括：

第一致動器，其構造成施加致動力到所述支撐件上，所述第一致動器 耦合到第一平衡質量塊，所述第一平衡質量塊構造并配置成吸收由所述第 一致動器產生的所述致動力導致的反作用力；

控制器；和

第二致動器，

其中，所述控制器和第二致動器配置成施加補償作用力，以基于在平 行于重力方向的方向上所述第一平衡質量塊的質心位置和所述支撐件的質 心位置不同，補償由于第一致動器施加到第一平衡質量塊上的致動力而引 起的扭矩；

其中，所述第一致動器構造和布置成施加致動力，以補償圍繞與重力 方向相垂直的平面中的一個方向上的軸線的扭矩和/或圍繞所述平面中與 所述一個方向的軸線相垂直的另一方向上的軸線的扭矩。

2.根據權利要求1所述的定位系統，其中，所述第一致動器被構造并 配置成在與所述平行于重力方向的方向相垂直的方向上施加所述致動力。

3.根據權利要求2所述的定位系統，其中，與所述平行于重力方向的 方向相垂直的所述方向基本上在水平面內。

4.根據權利要求1所述的定位系統，其中，所述第一致動器是包括磁 體板和線圈系統的平面電動機。

5.根據權利要求4所述的定位系統，其中，所述磁體板被提供給所述 第一平衡質量塊，而所述線圈系統被提供給所述支撐件。

6.根據權利要求1所述的定位系統，其中，所述定位系統包括可移動 地支撐所述支撐件、所述第一平衡質量塊和所述第一致動器的底架。

7.根據權利要求1所述的定位系統，其中，所述第二致動器被構造并 配置成在第二平衡質量塊上施加所述補償力。

8.根據權利要求6所述的定位系統，其中，所述第二致動器被構建成 在所述底架和支撐所述底架的地板之間施加所述補償力。

9.根據權利要求6所述的定位系統，其中，所述第二平衡質量塊被構 建成通過所述第二致動器在轉動方向上被致動以施加補償扭矩。

10.根據權利要求6所述的定位系統，其中，所述第二致動器被構建 成在所述第二平衡質量塊和所述底架之間施加所述補償作用力。

11.根據權利要求1所述的定位系統，其中，所述控制器包括輸入器和 計算器，所述輸入器表示由所述第一致動器施加的所述致動力，所述計算 器構造并配置成基于所述致動力計算所述補償力。

12.根據權利要求1所述的定位系統，其中，所述控制器構造并配置 成基于所述致動力的位置和方向以及所述補償力的位置和方向計算所述補 償力。

13.一種光刻設備，包括：

照射系統，其構建成調節輻射束；

圖案形成裝置支撐件，其構造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝 置能夠將圖案在所述輻射束的橫截面上賦予到所述輻射束以形成圖案化的 輻射束；

襯底支撐件，其構造成保持襯底；

投影系統，其構建成將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部 分上；和

定位系統，其構造并配置成定位至少一個所述支撐件，所述定位系統 包括：

第一致動器，所述第一致動器構建成施加致動力到所述支撐件 上，所述第一致動器耦合到第一平衡質量塊，所述第一平衡質量塊構 造并配置成吸收由所述第一致動器產生的所述致動力導致的反作用 力；和

控制器和第二致動器，所述控制器和第二致動器構造并配置成施 加補償力，以補償由于在平行于重力方向的方向上所述第一平衡質量 塊的質心位置和所述支撐件的質心位置不同而引起的扭矩；

其中，所述定位系統構造和布置成補償圍繞與重力方向相垂直的平面 中的一個方向上的軸線的扭矩和/或圍繞所述平面中與所述一個方向相垂 直的另一方向上的軸線的扭矩。