[發明專利]有機光阻去除劑組合物

無效

• 申請號: 200910134457.0
• 申請日: 2009-04-16
• 公開（公告）號: CN101866118A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: 王儷颕;蘇國禎;張明欽;涂勝宏
• 申請（專利權）人: 巴斯夫公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;H01L21/02
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 孟銳

1.一種光阻去除劑組合物，其包含：

(1)極性有機溶劑；

(2)堿性的一級或二級醇胺化合物或其組合；

(3)三級胺化合物；及

(4)防止金屬蝕刻的抑制劑。

2.如權利要求1的組合物，其進一步包含有機酸。

3.如權利要求1或2的組合物，其包含約60重量％至約84重量％的溶劑。

4.如權利要求3的組合物，其包含約65重量％至約80重量％的溶劑。

5.如權利要求4的組合物，其包含約65重量％至約75重量％的溶劑。

6.如權利要求1或2的組合物，其包含約2重量％至約10重量％的堿性的一級或二級醇胺化合物或其組合。

7.如權利要求6的組合物，其包含約2重量％至約8重量％的堿性的一級或二級醇胺化合物或其組合。

8.如權利要求7的組合物，其包含約2重量％至約5重量％的堿性的一級或二級醇胺化合物或其組合。

9.如權利要求1或2的組合物，其包含約13重量％至約35重量％的三級胺化合物。

10.如權利要求9的組合物，其包含約23重量％至約35重量％的三級胺化合物。

11.如權利要求1或2的組合物，其包含約0.1重量％至約3重量％的防止金屬蝕刻的抑制劑。

12.如權利要求11的組合物，其包含約0.2重量％至約1重量％的防止金屬蝕刻的抑制劑。

13.如權利要求1或2的組合物，其中該溶劑系選自由乙二醇醚或其衍生物、酰胺類、N-甲基吡咯烷酮、亞砜類、及其混合物所組成的群組。

14.如權利要求13的組合物，其中該乙二醇醚或其衍生物系選自由二乙二醇丁醚(BDG)、二乙二醇乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丁醚、醋酸二乙二醇丁醚、及其混合物所組成的群組。

15.如權利要求13的組合物，其中該酰胺系選自由N，N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N，N-二甲基甲酰胺(DMF)、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二乙基乙酰胺、N，N-二甲基丙酰胺、及其混合物所組成的群組。

16.如權利要求13的組合物，其中該亞砜類系二甲基亞砜(DMS0)。

17.如權利要求1或2的組合物，其中該堿性的一級或二級醇胺化合物系選自由單乙醇胺(MEA)、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、及其混合物所組成的群組。

18.如權利要求1或2的組合物，其中該三級胺化合物系選自由三乙胺(TEA)、二乙胺基乙醇、2-二甲基胺基乙醇、N-甲基，N-乙基乙醇胺、N，N-二甲基乙醇胺、及其混合物所組成的群組。

19.如權利要求1或2的組合物，其中該防止金屬蝕刻的抑制劑為硫醇類衍生物、有機酚類化合物或唑類化合物。

20.如權利要求19的組合物，其中該硫醇類衍生物系選自由硫代甘油(thioglycerol)、硫茂(thiophene)、硫脲(thiourea)、巰基乙醇(thioglycol)、丙硫醇、4-甲基-4H-1，2，4-三唑-3-硫醇、5-胺基-1，3，4-噻二唑-2-硫醇、及其混合物所組成的群組。

21.如權利要求19的組合物，其中該有機酚類化合物系選自由兒茶酚、4-甲基兒茶酚、4-硝基兒茶酚、氯乙酰兒茶酚、及其混合物所組成的群組。