[發明專利]振蕩器裝置、光偏轉器以及使用光偏轉器的光學器械

無效

• 申請號: 200910132946.2
• 申請日: 2007-06-07
• 公開（公告）號: CN101598852A
• 公開（公告）日: 2009-12-09
• 發明（設計）人: 加藤貴久;古川幸生;秋山貴弘
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 朱德強

1.一種制造振蕩器裝置的方法，所述振蕩器裝置具有振蕩部件、彈性支撐部和支撐部件，所述振蕩部件由所述彈性支撐部彈性地支撐，以便可繞振蕩軸線進行振蕩，所述方法包括：

由可動元件形成所述振蕩部件，所述可動元件具有用于調節所述振蕩部件質量的突起，所述突起沿與所述振蕩軸線平行的方向從所述可動元件延伸，并且，所述突起成對地形成，每對突起設置于相對所述振蕩軸線對稱的位置，每個突起的沿與所述振蕩軸線垂直的平面的截面積在所述振蕩軸線方向上是恒定的，以及

將激光束投射到所述突起的切割位置，以部分地去除所述可動元件，所述去除包含所述突起中未被激光束照射的、范圍涉及從所述切割位置到該突起的末端部的部分，

其中，所述突起被切割，致使所述突起的除去長度的總量等于預定長度，以便由此調節所述振蕩部件的轉動慣量。

2.如權利要求1所述的方法，其中，根據繞所述振蕩器裝置的振蕩軸線的固有震蕩模式的頻率與目標頻率之間的差來確定所述突起的除去長度的總量。

3.如權利要求2所述的方法，其中，處在相對于所述震蕩軸線對稱的位置的突起的除去量的比例被確定，以便降低所述震蕩部件的重心偏離所述振蕩軸線的偏離距離。

4.如權利要求3所述的方法，其中，所述突起中的每一個都僅形成在所述振蕩部件上最遠離所述振蕩軸線的位置。

5.如權利要求4所述的方法，其中，所述振蕩器裝置具有用于驅動所述振蕩部件的永久磁體和線圈，并且所述永久磁體設置在所述振蕩部件上。

6.一種制造振蕩器裝置的方法，所述振蕩器裝置具有第一振蕩部件、第一彈性支撐部、第二振蕩部件、第二彈性支撐部和支撐部件，所述第一振蕩部件通過所述第一彈性支撐部由所述第二振蕩部件彈性地支撐，以便可繞振蕩軸線振蕩，所述第二振蕩部件通過所述第二彈性支撐部由所述支撐部件彈性地支撐，以便可繞所述振蕩軸線振蕩，所述振蕩器裝置具有至少兩個固有振蕩模式，所述兩個固有振蕩模式具有不同的頻率，所述方法包括：

由第一可動元件形成所述第一振蕩部件，所述第一可動元件具有用于調節所述第一振蕩部件質量的突起，所述用于調節所述第一振蕩部件質量的突起沿與所述振蕩軸線平行的方向從所述第一可動元件延伸，并且，所述用于調節所述第一振蕩部件質量的突起成對地形成，每對用于調節所述第一振蕩部件質量的突起設置于相對所述振蕩軸線對稱的位置，每個用于調節所述第一振蕩部件質量的突起的沿與所述振蕩軸線垂直的平面的截面積在所述振蕩軸線方向上是恒定的，并由第二可動元件形成所述第二振蕩部件，所述第二可動元件具有用于調節所述第二振蕩部件質量的突起，所述用于調節所述第二振蕩部件質量的突起沿與所述振蕩軸線平行的方向從所述第二可動元件延伸，并且，所述用于調節所述第二振蕩部件質量的突起成對地形成，每對用于調節所述第二振蕩部件質量的突起設置于相對所述振蕩軸線對稱的位置，每個用于調節所述第二振蕩部件質量的突起的沿與所述振蕩軸線垂直的平面的截面積在所述振蕩軸線方向上是恒定的；

將激光束投射到所述突起的切割位置，以部分地去除所述第一可動元件和第二可動元件中的至少一個，所述去除包含所述突起中未被激光束照射的、范圍涉及從所述切割位置到該突起的末端部的部分，

其中，所述突起被切割，致使所述突起的除去長度的總量等于預定長度，以便由此調節所述第一可動元件和所述第二可動元件中的至少一個的轉動慣量。

7.如權利要求6所述的方法，其中，根據繞所述振蕩器裝置的振蕩軸線的固有震蕩模式的頻率與目標頻率之間的差來確定所述突起的除去長度的總量。

8.如權利要求7所述的方法，其中，處在相對于所述震蕩軸線對稱的位置的突起的除去量的比例被確定，以便降低所述震蕩部件的重心偏離所述振蕩軸線的偏離距離。

9.如權利要求8所述的方法，其中，所述突起中的每一個都僅形成在所述振蕩部件上最遠離所述振蕩軸線的位置。

10.如權利要求9所述的方法，其中，所述振蕩器裝置還包括用于驅動所述振蕩部件的永久磁體和線圈，所述永久磁體被設置在所述振蕩部件上。

11.如權利要求10所述的方法，其中，形成在相對于所述震蕩軸線對稱的位置并設置在所述第二振蕩部件上的突起的除去量的比例被確定，以便降低所述第二震蕩部件的重心偏離所述振蕩軸線的偏離距離。