[發明專利]熒光X射線分析裝置無效
| 申請號: | 200910132665.7 | 申請日: | 2004-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN101520423A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發明(設計)人: | 河野久征;莊司孝;堂井真 | 申請(專利權)人: | 株式會社理學 |
| 主分類號: | G01N23/223 | 分類號: | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 熒光 射線 分析 裝置 | ||
本發明是2004年3月11日申請的發明名稱為“熒光X射線分析裝置”的第200480002434.X號發明專利申請的分案申請。
技術領域
本發明涉及測定波長不同的多條2次X射線的相應強度的波長分散型熒光X射線分析裝置。
背景技術
近年,作為能夠針對波長不同的多條2次X射線,比如,熒光X射線和其基底,波長不同的多條熒光X射線,以充分的分辨率測定相應的強度的波長分散型熒光X射線分析裝置,包括有多元素同時熒光X射線分析裝置、掃描型熒光X射線分析裝置。在多元素同時熒光X射線分析裝置中,由于針對要測定的每條2次X射線,設置檢測器,故成本較高。另一方面,在掃描型熒光X射線分析裝置中,通過所謂的測角器等的聯動機構,按照改變通過分光元件分光的熒光X射線的波長,同時,該已進行了分光處理的熒光X射線射入檢測器的方式,使分光元件和檢測器聯動,并對其進行掃描,由此,可通過單一的檢測器,在較寬的波長范圍內,測定2次X射線的相應強度,但是,由于要求復雜而高精度的聯動機構,故成本很高。
與這些情況相對,包括JP特許第2685726號公報中描述的熒光X射線分析裝置。在該裝置中,通過單一的分光元件,對熒光X射線和其基底進行分光,焦點分別位于按照在單一的檢測器之前鄰接的方式設置的2個感光細縫,交替地打開這2個感光細縫,由此,不對分光元件和檢測器進行聯動掃描,測定相應的強度。于是,可簡單地、低價格地構成,但是,由于僅僅采用1個已固定的彎曲分光元件,故如果不是象重元素的熒光X射線及其基底那樣波長極接近的場合(兩者的衍射角(所謂的2θ)的差值在1度以內這樣的場合),則無法測定相應強度。
于是,人們提出了JP特開平8-201320號公報中所描述的熒光X射線分析裝置。在該裝置中,采用分別相對應的2個彎曲分光元件,對熒光X射線及其基底進行分光,焦點分別位于按照在單一的檢測器之前鄰接的方式設置的2個感光細縫,交替地打開這2個感光細縫,由此,不連續地對分光元件和檢測器進行掃描,測定相應的強度。于是,可簡單、低價格地構成,即使在以氮等的超輕元素的熒光X射和其基底程度,波長不同的情況下,仍可測定相應的強度。
但是,在JP特開平8-201320號公報的裝置中,雖然分光法采用通過彎曲分光元件對從試樣產生而發散的2次X射線進行分光,并將其會聚的所謂的集中法,但是2個彎曲分光元件沿厚度方向并排地固定,由此,常常形成從試樣和檢測器看,外側的彎曲分光元件的感光面的一部分進入內側的彎曲分光元件的陰影的設置,無法以充分的靈敏度,測定通過外側的彎曲分光元件分光的2次X射線的強度。如果外側的彎曲分光元件充分地遠離內側的彎曲分光元件,則具有2次X射線的入射角過大,無法配備具有可對所需的波長的2次X射線進行分光的晶格面間距的彎曲分光元件的擔心。
發明的公開
本發明是針對上述過去的問題而提出的,本發明的目的在于提供一種波長分散型熒光X射線分析裝置,其為采用單一的檢測器的簡單的、低價格的結構,同時,在較寬的波長范圍內,以充分的靈敏度測定波長不同的多條2次X射線的相應強度。
為了實現上述目的,本發明的第1方案的熒光X射線分析裝置包括對試樣照射1次X射線的X射線源;使從上述試樣發生的2次X射線發散的發散細縫;對通過發散細縫發散的2次X射線進行分光、會聚的分光元件;測定通過該分光元件分光的2次X射線的強度的單一檢測器,上述分光元件采用多個彎曲分光元件,該多個彎曲分光元件沿從上述試樣和檢測器觀看,2次X射線的光路擴展的方向并排地固定,由此,測定波長不同的多條2次X射線的相應強度。
在該第1方案的裝置中,由于針對波長不同的多條2次X射線,采用分別相對應而固定的分光元件,不聯動地使分光元件和檢測器進行掃描,通過單一的檢測器,測定相應強度,由此,可在形成簡單、低價格的方案的同時,在較寬的波長范圍內,測定波長不同的多條2次X射線的相應強度。另外,分光法采用上述集中法,但是,由于多個彎曲分光元件沿從上述試樣和檢測器觀看,2次X射線的光路擴展的方向并排地固定,故未形成某個分光元件的感光面由另一分光元件覆蓋這樣的設置,可以充分的靈敏度測定波長不同的多條2次X射線的相應強度。
本發明的第2方案的熒光X射線分析裝置包括對試樣照射1次X射線的X射線源;使從上述試樣發生的2次X射線平行的索勒細縫;對通過索勒細縫平行處理的2次X射線進行分光的分光元件;測定通過該分光元件分光的2次X射線的強度的單一檢測器,上述索勒細縫和分光元件采用從上述試樣觀看,呈輻射狀并排地固定的多組索勒細縫和平板分光元件,由此,測定波長不同的多條2次X射線的相應強度。
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