[發(fā)明專利]熒光X射線分析裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910132665.7 | 申請日： | 2004-03-11 |
| 公開（公告）號： | CN101520423A | 公開（公告）日： | 2009-09-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 河野久征;莊司孝;堂井真 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社理學(xué) |
| 主分類號： | G01N23/223 | 分類號： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三幸商標專利事務(wù)所 | 代理人： | 劉激揚 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 熒光 射線 分析 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種熒光X射線分析裝置，該熒光X射線分析裝置包括：
對試樣照射1次X射線的X射線源；
對從試樣發(fā)生的2次X射線進行分光的分光元件；
測定通過該分光元件分光的2次X射線的強度的單一檢測器；
上述分光元件采用單一的分光元件，設(shè)置使該分光元件有選擇地移動到規(guī)定的多個位置的分光元件移動機構(gòu)，由此，測定波長不同的多條2次X射線的相應(yīng)強度；
上述規(guī)定的多個位置包括下述的多個位置，該多個位置分別與試樣的間隔開的部位相對應(yīng)，用于對相同的波長的2次X射線進行分光。
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