[發(fā)明專利]顯影裝置及具備該顯影裝置的圖像形成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910131046.6
• 申請日: 2009-04-20
• 公開（公告）號: CN101566818A
• 公開（公告）日: 2009-10-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 森幸廣;橋本光弘
• 申請（專利權(quán)）人: 京瓷美達(dá)株式會社
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 李雪春;武玉琴

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及為了形成調(diào)色劑像進(jìn)行調(diào)色劑的儲存和供給的顯影裝置以及具備該顯影裝置的圖像形成裝置。?

背景技術(shù)

顯影裝置一般包括：顯影劑儲存部，儲存含有調(diào)色劑的顯影劑，并且攪拌并輸送顯影劑；顯影輥，從顯影劑儲存部接受調(diào)色劑并承載該調(diào)色劑；以及顯影劑限制刮板，限制向顯影輥提供的調(diào)色劑的量。在這種結(jié)構(gòu)的顯影裝置中，例如，因攪拌顯影劑產(chǎn)生的摩擦熱造成顯影裝置內(nèi)的溫度上升，所以導(dǎo)致調(diào)色劑在顯影裝置內(nèi)融化，其結(jié)果難以實(shí)現(xiàn)調(diào)色劑像的高畫質(zhì)化。?

作為抑制顯影裝置內(nèi)部溫度上升的技術(shù)，公知的有例如專利文獻(xiàn)1的日本專利公開公報(bào)特開2004-109868號所公開的技術(shù)。專利文獻(xiàn)1的顯影裝置具有設(shè)置在顯影劑限制刮板附近的通風(fēng)道，通過與顯影劑接觸的顯影劑限制刮板散發(fā)摩擦熱，來抑制顯影裝置內(nèi)部溫度的上升。?

但是，在所述顯影裝置中，顯影劑容易附著在顯影劑限制刮板的表面，有時(shí)覆蓋該表面的顯影劑使顯影劑限制刮板的熱傳導(dǎo)性降低。在這種情況下，由于抑制所述溫度上升的效果降低，所以即使具有通風(fēng)道，也難以實(shí)現(xiàn)調(diào)色劑像的高畫質(zhì)化。?

此外，近年來為了提高圖像的再現(xiàn)性，要求作為顯影劑成分的載體和調(diào)色劑的粒徑都小直徑化。如果粒徑小直徑化，則顯影劑的流動性降低，所以顯影劑變得容易發(fā)熱。因此，進(jìn)一步要求抑制顯影裝置內(nèi)部的溫度上升。?

發(fā)明內(nèi)容

鑒于以上所述情況，本發(fā)明的目的在于提供一種可以抑制因攪拌顯?影劑產(chǎn)生的摩擦熱所引起的溫度上升的顯影裝置及具備該顯影裝置的圖像形成裝置。?

為了達(dá)成所述目的，本發(fā)明的一種顯影裝置包括：顯影劑儲存部，具有儲存顯影劑的第一顯影劑儲存室和第二顯影劑儲存室，所述顯影劑在所述第一顯影劑儲存室和所述第二顯影劑儲存室之間被輸送；攪拌構(gòu)件，配置在所述顯影劑儲存部內(nèi)，攪拌并輸送所述顯影劑；顯影劑承載體，從所述顯影劑儲存部接受所述顯影劑，并承載該顯影劑；顯影劑限制構(gòu)件，限制所述顯影劑承載體從所述顯影劑儲存部接受的所述顯影劑的量；散熱構(gòu)件，設(shè)置在與所述顯影劑接觸的位置，能夠散發(fā)所述顯影劑保有的熱量；以及通風(fēng)道，使用于冷卻的空氣流通，其中，所述散熱構(gòu)件為隔板，用于隔開所述第一顯影劑儲存室和所述第二顯影劑儲存室，所述隔板包括：第一部分，在所述顯影劑儲存部內(nèi)延伸；以及第二部分，與所述第一部分不同，在所述顯影劑儲存部的外部延伸，所述第二部分設(shè)置在所述通風(fēng)道內(nèi)，與所述顯影劑接觸的所述第一部分的表面粗糙度設(shè)定成算術(shù)平均表面粗糙度Ra1，并且與所述顯影劑不接觸的所述第二部分的表面粗糙度設(shè)定成算術(shù)平均表面粗糙度Ra2，所述算術(shù)平均表面粗糙度Ra1設(shè)定為：在調(diào)色劑的體積平均粒徑的1/3以下，所述算術(shù)平均表面粗糙度Ra2設(shè)定為：在所述算術(shù)平均表面粗糙度Ra1以上。?

按照以上所述結(jié)構(gòu)的顯影裝置，由于將散熱構(gòu)件的與顯影劑接觸的表面的算術(shù)平均表面粗糙度Ra1設(shè)定成調(diào)色劑的體積平均粒徑的1/3以下，所以顯影劑難于附著在所述接觸表面上。由此，可以確保散熱構(gòu)件的散熱性，使例如由攪拌顯影劑產(chǎn)生的摩擦熱散發(fā)掉，其結(jié)果，可以在顯影裝置內(nèi)部抑制溫度上升。?

按照該結(jié)構(gòu)，由于散熱構(gòu)件的與顯影劑不接觸的表面的表面積變大，所以可以提高所述不接觸的表面的散熱性。?

如上所述，散熱構(gòu)件優(yōu)選由設(shè)置在顯影劑儲存部內(nèi)的板構(gòu)件、限制顯影劑量的顯影劑限制構(gòu)件或形成顯影劑儲存部的壁部、或者這些部件組合構(gòu)成。在散熱構(gòu)件是所述板構(gòu)件或壁部的情況下，可以將在顯影劑?儲存部內(nèi)攪拌顯影劑產(chǎn)生的摩擦熱散發(fā)掉。此外，在散熱構(gòu)件是顯影劑限制刮板的情況下，可以散發(fā)在顯影劑承載體上的顯影劑產(chǎn)生的熱量。而且，由于采用了可以利用通風(fēng)道冷卻散熱構(gòu)件的具有算術(shù)平均表面粗糙度Ra2的表面的結(jié)構(gòu)，所以可以促進(jìn)散熱構(gòu)件進(jìn)行的散熱。?