[發明專利]顯影裝置及具備該顯影裝置的圖像形成裝置

有效

• 申請號: 200910131046.6
• 申請日: 2009-04-20
• 公開（公告）號: CN101566818A
• 公開（公告）日: 2009-10-28
• 發明（設計）人: 森幸廣;橋本光弘
• 申請（專利權）人: 京瓷美達株式會社
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 李雪春;武玉琴

1.一種顯影裝置，其特征在于包括：

顯影劑儲存部，具有儲存顯影劑的第一顯影劑儲存室和第二顯影劑 儲存室，所述顯影劑在所述第一顯影劑儲存室和所述第二顯影劑儲存室 之間被輸送；

攪拌構件，配置在所述顯影劑儲存部內，攪拌并輸送所述顯影劑；

顯影劑承載體，從所述顯影劑儲存部接受所述顯影劑，并承載該顯 影劑；

顯影劑限制構件，限制所述顯影劑承載體從所述顯影劑儲存部接受 的所述顯影劑的量；

散熱構件，設置在與所述顯影劑接觸的位置，能夠散發所述顯影劑 保有的熱量；以及

通風道，使用于冷卻的空氣流通，其中，

所述散熱構件為隔板，用于隔開所述第一顯影劑儲存室和所述第二 顯影劑儲存室，

所述隔板包括：第一部分，在所述顯影劑儲存部內延伸；以及第二 部分，與所述第一部分不同，在所述顯影劑儲存部的外部延伸，

所述第二部分設置在所述通風道內，

與所述顯影劑接觸的所述第一部分的表面粗糙度設定成算術平均表 面粗糙度Ra1，并且與所述顯影劑不接觸的所述第二部分的表面粗糙度 設定成算術平均表面粗糙度Ra2，

所述算術平均表面粗糙度Ra1設定為：在調色劑的體積平均粒徑的 1/3以下，

所述算術平均表面粗糙度Ra2設定為：在所述算術平均表面粗糙度 Ra1以上。

2.一種顯影裝置，其特征在于包括：

顯影劑儲存部，儲存顯影劑；

攪拌構件，配置在所述顯影劑儲存部內，攪拌并輸送所述顯影劑；

顯影劑承載體，從所述顯影劑儲存部接受所述顯影劑，并承載該顯 影劑；

顯影劑限制構件，限制所述顯影劑承載體從所述顯影劑儲存部接受 的所述顯影劑的量；

散熱構件，設置在與所述顯影劑接觸的位置，能夠散發所述顯影劑 保有的熱量；

第一通風道，使用于冷卻的空氣流通；以及

第二通風道，與所述顯影劑限制構件鄰接配置，其中，

所述散熱構件由所述顯影劑限制構件構成，

所述顯影劑限制構件為板構件，其包括：第一部分，與所述顯影劑 承載體上的所述顯影劑接觸；以及第二部分，與所述第一部分不同，位 于與所述顯影劑承載體離開的位置，

所述第一部分的表面粗糙度設定成算術平均表面粗糙度Ra1，并且 所述第二部分的表面粗糙度設定成算術平均表面粗糙度Ra2，

所述第二部分設置在所述第二通風道內，

所述第二通風道具有：外表面，朝向所述顯影劑承載體；以及內表 面，與該第二通風道內的空氣接觸，

所述外表面沿所述顯影劑承載體表面延伸，與所述顯影劑承載體表 面上的顯影劑接觸，

所述外表面的表面粗糙度設定成所述算術平均表面粗糙度Ra1，并 且所述內表面的表面粗糙度設定成所述算術平均表面粗糙度Ra2，

所述算術平均表面粗糙度Ra1設定為：在調色劑的體積平均粒徑的 1/3以下，

所述算術平均表面粗糙度Ra2設定為：在所述算術平均表面粗糙度 Ra1以上。

3.根據權利要求2所述的顯影裝置，其特征在于，所述第二通風道 的位置設定成：在所述顯影劑限制構件限制所述顯影劑承載體上的顯影 劑之前，所述外表面與所述顯影劑承載體上的顯影劑接觸。

4.一種圖像形成裝置，其特征在于包括：

感光鼓，被形成調色劑像；

顯影裝置，用于在所述感光鼓上形成所述調色劑像；以及

定影部，將從所述感光鼓轉印到紙上的所述調色劑像定影在該紙上； 其中，

所述顯影裝置為權利要求1-3中任意一項所述的顯影裝置。