[發明專利]用于X熒光光譜儀的光斑定位調整方法及裝置有效
| 申請號: | 200910129548.5 | 申請日: | 2009-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN101551347A | 公開(公告)日: | 2009-10-07 |
| 發明(設計)人: | 劉召貴;應剛;李勝輝;李玉花 | 申請(專利權)人: | 江蘇天瑞儀器股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N23/223 | 分類號: | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 李 麗 |
| 地址: | 215347江蘇省昆山市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 熒光 光譜儀 光斑 定位 調整 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及X熒光光譜儀的步進控制技術,尤其涉及一種可以精確定位光 譜儀光斑并進行初始化調整的方法以及裝置。
背景技術
X熒光光譜儀是一種不損傷影響產品材質情況下,用于檢測其物質成分的 探測分析裝置,利用了X熒光照射多組分物質表面時所激發的能量色散作用, 它的工作效率高,一般多元素樣品的分析時間僅為兩至三分鐘,所以被廣泛 應用于各種化工、冶金行業的產品檢測。
如圖1所示,為現有常見的X熒光光譜儀系統示意圖,主要包括:X射線 發射系統101和用于承載被測樣品的可移動的樣品臺102,以及在X光發射系統 101的一側設置的檢測分析系統103。一般還設有移動控制系統104控制電機 105驅動樣品臺。
X熒光光譜儀在使用時,需用X射線發射系統101所產生的X射線照射被 測樣品106的表面,激發樣品表面原子所產生的X熒光信息被探測分析系統 103獲取分析,圖中的光路僅表示意,基本上X射線照射的入射角與產生X熒 光的出射角相同;當樣品放入樣品臺之后,需移動樣品臺將樣品的測試點對 準X射線的光斑。由于X射線是肉眼無法分辨的,且每次使用后,X射線照射 的光斑初始位置相對于樣品臺在一定范圍內是隨機的,這是因為每次使用時, 樣品臺都會被移動使得樣品各處表面被X射線照射檢測,下一次使用的人員 可能并不清楚光斑照射的具體位置。所以在下一次照射分析前需要將光斑位 置,也即X射線相對于樣品臺的照射位置準確定位,并進行初始化調整。
目前,X熒光光譜儀的光斑定位主要采用兩種方法:
一、將熒光紙置于照射區范圍,當X射線照射在熒光紙上產生可見光斑, 再用肉眼進行目測。這種方法定位較為粗略,只適合大尺寸樣品測試等定位 要求不高的使用環境中,而無法滿足精密測試的需求。
二、激光對準定位,使用一些可見激光與X射線發射系統同軸照射,根據 可視激光的照射位置定位X射線照射的光斑。這種方法雖然定位較為準確,但 是初始化時仍然需用人為操作移動樣品臺進行調整修正,且高能的激光有可 能破壞被測樣品的表面結構。
所以針對當前的X熒光光譜儀的日益精準的測試需求,需要改進現有的光 斑定位方法,實現準確定位的同時還能快速有效地進行調整。
發明內容
本發明所解決的問題是提供一種用于X熒光光譜儀的光斑定位調整方法 及裝置,實現光斑的精確定位以及快速調整。
本發明提供的一種光斑定位調整方法,主要步驟包括:
提供狹縫板,設置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區;
所述狹縫板上設有位于照射區內,且互相垂直呈“L”字形的兩條狹縫, 并以兩條狹縫的中心線分別為x軸、y軸建立直角坐標系,兩軸的交點為原點;
設定光斑初始化位置的坐標;
沿平行于任意一坐標軸的方向移動所述樣品臺,測出光斑起始位置在該 軸的坐標,并回復至起始位置;
沿平行于另一坐標軸的方向移動所述樣品臺,測出光斑起始位置在該軸 的坐標,并回復至起始位置;
根據上述起始位置以及初始化位置的坐標,移動樣品臺將光斑定位于初 始化位置。
根據上述方法所提供的一種光斑定位調整裝置,主要包括:
狹縫板,設置于X熒光光譜儀樣品臺上,且覆蓋照射區;
所述狹縫板上設有位于照射區內,且互相垂直呈“L”字形的兩條狹縫;
兩個步進電機,分別使得樣品臺沿狹縫方向移動,并記錄樣品臺的位移;
樣品臺移動控制系統,用于控制步進電機移動樣品臺;
光斑感應裝置,設置于狹縫板,用于判定光斑與狹縫中心線重合。
作為優選方案,利用X熒光光譜儀的檢測分析系統作為光斑感應裝置, 接收X射線照射狹縫板后產生的X熒光或者透射的X射線并進行分析。
作為優選方案,光斑感應裝置感應X射線照射狹縫板產生的X熒光的強 度,當照射的光斑在狹縫板上移動至狹縫,產生的X熒光強度最小時,確定 光斑與狹縫中心線重合。
作為另一個優選方案,光斑感應裝置感應X射線照射狹縫板所透射的X 射線強度,當照射的光斑在狹縫板上移動至狹縫,透射的X射線強度最大時, 確定光斑與狹縫中心線重合。
作為優選方案,所述狹縫位于照射區內側邊緣,且寬度不大于光斑的斑 徑。
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