[發(fā)明專利]電解處理裝置和電解處理方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910127389.5 | 申請日： | 2009-03-13 |
| 公開（公告）號： | CN101538733A | 公開（公告）日： | 2009-09-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 增田明 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | C25F7/00 | 分類號： | C25F7/00;C25F3/02 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人： | 陳建全 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電解 處理 裝置 方法 | ||
1、一種電解處理裝置，其是將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理裝置，該電解處理裝置具備：
電解槽，貯存所述電解液、在內(nèi)部輸送帶狀體；
電極，沿所述帶狀體在所述電解槽中的輸送路徑而配設(shè)并被施加直流或交流；
絕緣板，其在所述輸送路徑中與帶狀體的兩側(cè)緣部附近對應(yīng)的部分以夾隔所述輸送路徑地與所述電極相對的方式配設(shè)，且與所述輸送路徑相對側(cè)的表面的硬度高于帶狀體表面的硬度，在所述絕緣板的表面的內(nèi)側(cè)的側(cè)緣部形成有向所述輸送路徑的中央部變薄的方向的傾斜。
2、一種電解處理裝置，其是將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理裝置，該電解處理裝置具備：
電解槽，貯存所述電解液、在內(nèi)部輸送帶狀體；
電極，沿所述帶狀體在所述電解槽中的輸送路徑而配設(shè)并被施加直流或交流；
絕緣板，其以遍及所述輸送路徑的整個(gè)寬度并夾隔所述輸送路徑地與所述電極相對的方式配設(shè)，且與所述輸送路徑相對側(cè)的表面的硬度高于帶狀體表面的硬度，在所述絕緣板的表面按規(guī)定的間距形成有凹陷部、貫通孔、突出部或槽。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電解處理裝置，其中，在所述絕緣板的輸送方向上游側(cè)的端部，以沿所述輸送方向向所述帶狀體的輸送路徑接近的方式形成有傾斜。
4、一種電解處理方法，其是將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理方法，該方法中，
在貯存所述電解液的電解槽的內(nèi)側(cè)，沿輸送所述帶狀體的輸送路徑配設(shè)電極，
在所述輸送路徑中與帶狀體的兩側(cè)緣部附近對應(yīng)的部分，以夾隔所述輸送路徑地與所述電極相對的方式配設(shè)絕緣板，所述絕緣板與所述輸送路徑相對側(cè)的表面的硬度高于帶狀體表面的硬度，在所述絕緣板的表面的內(nèi)側(cè)的側(cè)緣部形成有向所述輸送路徑的中央部變薄的方向的傾斜，
一邊將所述帶狀體沿所述輸送路徑在所述電解槽中輸送，一邊向所述電極施加直流或交流而對所述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理。
5、一種電解處理方法，其是將沿規(guī)定方向輸送的帶狀體在電解液中進(jìn)行電化學(xué)處理的電解處理方法，該方法中，
在貯存所述電解液的電解槽的內(nèi)側(cè)，沿輸送所述帶狀體的輸送路徑配設(shè)電極，
以遍及所述輸送路徑的整個(gè)寬度并夾隔所述輸送路徑地與所述電極相對的方式配設(shè)絕緣板，所述絕緣板與所述輸送路徑相對側(cè)的表面的硬度高于帶狀體表面的硬度，在所述絕緣板的表面按規(guī)定的間距形成有凹陷部、貫通孔、突出部或槽，
一邊將所述帶狀體沿所述輸送路徑在所述電解槽中輸送，一邊向所述電極施加直流或交流而對所述帶狀體進(jìn)行電化學(xué)處理。
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