[發(fā)明專利]LED封裝模塊及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910108734.0 | 申請日: | 2009-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN101691909A | 公開(公告)日: | 2010-04-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李金明 | 申請(專利權)人: | 東莞市萬豐納米材料有限公司 |
| 主分類號: | F21S2/00 | 分類號: | F21S2/00;F21V23/00;F21V29/00;F21V7/00;F21V7/22;H01L23/373;H01L33/00;F21Y101/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 523000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | led 封裝 模塊 及其 制備 方法 | ||
1.一種LED封裝模塊,包括基板,該基板具有固晶面和布線面,其特征在于:所述布線面具有線路部分,所述線路部分構成所述基板上的電路,所述線路部分設置于所述布線面的表層;所述線路部分具有層狀結構,由內向外,所述線路部分包括導熱絕緣膠層、導電鍍層。
2.根據權利要求1所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述固晶面與所述布線面平行設置,所述固晶面之高度底于所述布線面,所述固晶面與所述布線面之間設有反射過度面。
3.根據權利要求2所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述基板還包括一層反射膜,所述反射膜設置于所述固晶面表面、所述布線面最內層、及所述反射過度面表面;所述反射膜的膜系結構為Ni-Ag-Ni;所述Ni-Ag-Ni結構各層的厚度分別為8nm、15nm、8nm。
4.根據權利要求1所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述導熱絕緣膠層的材料為環(huán)氧樹脂與α-Al2O3的混合物,所述導熱絕緣膠層的厚度為0.02mm-0.06mm。
5.根據權利要求1所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述導熱絕緣膠層的材料為聚酰亞胺與α-Al2O3的混合物,所述導熱絕緣膠層的厚度為0.02mm-0.06mm。
6.根據權利要求1所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述導電鍍層是0.002mm-0.018mm厚度的納米電沉積Cu。
7.根據權利要求1所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述導電鍍層還包括一設置在所述納米電沉積Cu底部的真空鍍底層,所述真空鍍底層為5nm-10nm的電沉積Ni。
8.根據權利要求1所述的LED封裝模塊,其特征在于:所述固晶面與所述布線面平行設置,所述固晶面之高度底于所述布線面,所述固晶面與所述布線面之間設有反射過度面;所述基板還包括一層反射膜,所述反射膜設置于所述固晶面表面、所述布線面最內層、及所述反射過度面表面;所述反射膜的膜系結構為Ni-Ag-Ni;所述Ni-Ag-Ni結構各層的厚度分別為8nm、15nm、8nm;所述導熱絕緣膠層的材料為聚酰亞胺與α-Al2O3的混合物,所述導熱絕緣膠層的厚度為0.02mm-0.06mm;所述導電鍍層是0.002mm-0.018mm厚度的納米電沉積Cu;所述導電鍍層還包括一設置在所述納米電沉積層底部的真空鍍底層,所述真空鍍底層為5nm-10nm的電沉積Ni。
9.一種LED封裝模塊的制備方法,該LED封裝模塊包括基板,基板具有布線面,布線面包括線路部分;該方法包括線路部分制作工序,其特征在于,所述線路部分制作工序包括以下步驟:
(1)絲印導熱絕緣膠層,
(2)烘干,
(3)貼保護膜,
(4)真空鍍底,
(5)納米電沉積Cu,
其中,
第(1)步所述的導熱絕緣膠層的厚度為0.02mm-0.06mm,所述導熱絕緣膠層的材料為環(huán)氧樹脂與α-Al2O3的混合物,或聚酰亞胺與α-Al2O3的混合物;
第(2)步所述的烘干為熱風烘干,當所述導熱絕緣膠層的材料采用環(huán)氧樹脂與α-Al2O3的混合物時,該烘干步驟采用的溫度為180℃-200℃;當所述導熱絕緣膠層的材料采用聚酰亞胺與α-Al2O3的混合物時,該烘干步驟采用的溫度為180℃-400℃;
第(3)步所述的保護膜,是PVC膜加橡膠粘結,或PET膜加硅膠粘結,或PP膜加亞克力膠粘結;
第(4)步所述的真空鍍底,是以真空濺射或真空蒸鍍方式沉積5nm-10nm的Ni;
第(5)步所述的納米電沉積Cu,是以真空濺射或真空蒸鍍金方式沉積0.002mm-0.018mm的Cu。
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