[發明專利]液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法有效
| 申請號： | 200910106440.4 | 申請日： | 2009-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN101846819A | 公開（公告）日： | 2010-09-29 |
| 發明（設計）人： | 李衛鳳;高明 | 申請（專利權）人： | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/13 | 分類號： | G02F1/13;G02F1/139 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518118 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液晶顯示器 制造 絲印 檢測 方法 | ||
1.一種液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：
A、絲印完密封框膠后，在基板的定向層上直接涂覆一層液晶；
B、將涂有液晶層的基板放在帶有偏光系統的光學放大系統下，通過調整光學放大系統的亮度和放大倍數，觀察基板上是否有絲印網痕。
2.根據權利要求1所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，在步驟A中，所述涂覆一層液晶是用光滑的玻璃片將直接滴在玻璃上的液晶涂布在基板的定向層上。
3.根據權利要求2所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，所述涂覆液晶層的厚度在5um-50um之間。
4.根據權利要求1所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，在步驟A中，所述液晶是介電系數異方性為正型的螺旋扭曲向列型液晶。
5.根據權利要求4所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，所述液晶可以是被污染的液晶。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，所述液晶的雙折射率在0.14-0.16之間。
7.根據權利要求1所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，在步驟B中，所述帶有偏光系統的光學放大系統的放大倍數在200倍以上。
8.根據權利要求7所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，所述帶有偏光系統的光學放大系統為偏光顯微鏡或者激光修復機。
9.根據權利要求1所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，在步驟B中，所述帶有偏光系統的光學放大系統具有反射光源和透射光源，反射光源和透射光源的亮度可調節。
10.根據權利要求9所述的液晶顯示器制造中絲印網痕的檢測方法，其特征在于，所述反射光源的亮度為80-220LUX，所述透射光源的亮度為0-10LUX。
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