[發明專利]含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑的合成及應用

無效

• 申請號: 200910104313.0
• 申請日: 2009-07-13
• 公開（公告）號: CN101602819A
• 公開（公告）日: 2009-12-16
• 發明（設計）人: 高放;仲曉林;王琪;李紅茹;張勝濤
• 申請（專利權）人: 重慶大學
• 主分類號: C08F2/50
• 分類號: C08F2/50;C07C251/24;C07C249/02;C08F120/14
• 代理公司: 重慶大學專利中心
• 代理人: 郭吉安

技術領域

本發明屬于可見光敏劑領域，特別是含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑的合成及應用。

背景技術

高效的可見光光敏引發體系是目前光聚合研究中的重要領域。隨著激光成像和光固化技術的進步，光敏高分子材料如光致抗蝕劑、光固化油墨、涂料和光敏印刷版材等得到了迅速的發展。這些光功能性材料的一個關鍵技術是如何使其光譜響應范圍向長波長延伸，并獲得高靈敏度。為此，開發新型高感低能的、對長波長可見激光敏感的光聚合引發體系已成為當今研究的熱點。使引發劑的光譜吸收移向長波長區域的一種方法就是根據需要的感光波長，尋找合適的可見光光敏劑。Yong?He，Wenhui?Zhou，Feipeng?Wu，Miaozhen?Li，Erjian?Wang發現了吸收可見光的方酸染料可以敏化紫外光引發劑碘鎓鹽實現可見光光聚合。題目是：《方酸/碘鎓鹽組合的光反應與光聚合的研究》(Photoreaction?and?photopolymerization?studies?onsquaraine?dyes/iodonium?salts?combination)，《Journal?of?Photochemistry?and?Photobiology?A：Chemistry》(光化學與光生物雜志A：化學)，2004，162(2-3)，463-471。在可見光的光照下，方酸作為可見光光敏劑敏化紫外光引發劑碘鎓鹽，通過分子間的光致電子轉移產生自由基引發烯類單體聚合，然而，這類染料的溶解性不是很好，并且其引發效率有待提高。傳統的光引發劑包括二苯甲酮、三氯代甲基均三嗪，碘鎓鹽，安息香醚及其衍生物，雙咪唑等，這些光引發劑的引發效率很高，但它們只能吸收200-300nm的紫外光，可見光區幾乎沒有吸收。

發明內容

本發明的目的為：

(1)本發明通過設計含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑，使其最大吸收在可見光區，并且具有較大的摩爾消光系數和較高的引發效率。

(2)本發明通過簡便的方法制備含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑。

(3)本發明通過設計合成含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑，使其紫外可見吸收的峰值紅移至390nm以上，可作為可見光光敏劑，紫外光引發劑與其他助劑組成光敏系統用于溶液中烯類單體的可見光聚合或作為光固化材料。

本發明所涉及的含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑，其化合物的化學結構通式如下：

其中分子結構式(I)中化合物代表A：R₁，R₃：H，R₂：OCH₃，OCH₂CH₃，OCH₂CH₂CH₃，O?CH₂CH₂CH₂CH₃，N(CH₃)₂，N(CH₂CH₃)₂，N(CH₂CH₂CH₃)₂，N(CH₂CH₂CH₂CH₃)₂，N(Ph)₂；B：(R₁：H，OCH₃，R₂，R₃：OCH₃)。

上述含有鄰羥基的具有共軛結構希夫堿型的可見光光敏劑的合成方法包括以下步驟：

第一步：4-硝基二苯乙烯衍生物的合成

反應方程式為：