[發(fā)明專利]一種燒結(jié)釹鐵硼永磁材料化學(xué)拋光液及處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910100368.4
• 申請日: 2009-07-09
• 公開（公告）號: CN101638782A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宋振綸;李建忠;應(yīng)華根;楊恒修;吳浩杰
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所
• 主分類號: C23F3/06
• 分類號: C23F3/06
• 代理公司: 寧波誠源專利事務(wù)所有限公司
• 代理人: 袁忠衛(wèi)

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種粉末燒結(jié)金屬材料表面處理工藝，尤其是涉及一種燒結(jié)釹鐵硼永磁材料表面化學(xué)拋光處理工藝。

背景技術(shù)

目前，解決燒結(jié)釹鐵硼永磁體腐蝕問題的主要方法是在磁體表面沉積一層防腐蝕涂料鍍層，可以用電鍍、化學(xué)鍍、轉(zhuǎn)化膜、電泳、物理氣相沉積等方法來提高其耐蝕性能。幾乎所有的涂鍍方法均采用了堿洗除油、酸洗除銹、活化等前處理工藝。燒結(jié)釹鐵硼永磁材料是粉體合金經(jīng)壓制再燒結(jié)而成型，低熔點的富釹相形成了材料的唯一連續(xù)相，并且富釹相與主相腐蝕不一致，富釹相更易腐蝕。經(jīng)過前述的鍍前處理過程后，對其影響最大的是酸洗過程，酸洗后位于晶界處的富釹相首先被腐蝕，釹鐵硼永磁體表面會留下晶界腐蝕較深的缺陷，甚至產(chǎn)生縫隙；材料表面的這些晶界縫隙在電鍍、化學(xué)鍍等過程中還容易殘留鍍液，進而影響后面鍍膜層的性能，如導(dǎo)致膜層的孔隙率增多，膜層與基體的結(jié)合力變差等，從而降低膜層的防護性能，并且限制了產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)域。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)的現(xiàn)狀提供一種表面腐蝕處理均勻的燒結(jié)釹鐵硼永磁材料化學(xué)拋光處理方法。

實現(xiàn)本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為：該燒結(jié)釹鐵硼永磁體化學(xué)拋光液，其特征在于該拋光液是以水為溶劑，硝酸、磷酸和硫酸為溶質(zhì)并且各組分的含量為

硝酸????????400～900ml/L

磷酸????????5～40ml/L

硫酸????????5～40ml/L

所述硝酸可以為工業(yè)硝酸，其濃度為66～68v％；所述的磷酸可以為工業(yè)磷酸，其濃度為85v％；所述硫酸可以為工業(yè)硫酸，其濃度為98v％。

較好的，所述硝酸的含量為700～900ml/L；所述的磷酸含量為10～20ml/L；所述的硫酸含量為10～20ml/L；所述的化學(xué)拋光液的溫度是25～80℃，更好的是55～70℃。

使用上述拋光液進行燒結(jié)釹鐵硼永磁體化學(xué)拋光處理方法，其特征在于包括下述步驟：

①將釹鐵硼永磁體進行堿洗脫脂；

②將燒結(jié)釹鐵硼永磁體浸入化學(xué)拋光液中拋光，所述的化學(xué)拋光液以水為溶劑，溶質(zhì)為硝酸、磷酸和硫酸，其中硝酸的含量為400～900ml/L，較好的，硝酸含量可以為700～900ml/L；磷酸的含量為5～40ml/L，較好的，磷酸的含量可以為10～20ml/L；硫酸的含量為5～40ml/L，較好的，硫酸的含量可以為10～20ml/L；

在化學(xué)拋光時，燒結(jié)釹鐵硼磁體需要翻動，可以采用連續(xù)翻動，也可以間歇翻動，較好的，間歇翻動的時間間隔為1～3s；其浸蝕拋光時間為10～120s，較好的，所述的拋光時間可以為60s～90s；，所述拋光液的溫度為25～80℃；較好的為55～70℃；

③將化學(xué)拋光后的釹鐵硼永磁體清洗、活化。

上述拋光液中所使用的溶質(zhì)硝酸可以為工業(yè)硝酸，其體積濃度可以為66～68％，所使用的溶質(zhì)磷酸可以為工業(yè)常用磷酸，其體積濃度為可以為83～88％；所使用的溶質(zhì)硫酸可以為工業(yè)常用硫酸，其體積濃度可以為92～98％。

上述步驟③中的活化可以分兩步進行，a)采用稀硝酸溶液去除氧化膜；b)在檸檬酸三鈉溶液中活化。

常規(guī)的低濃度酸洗方法最好效果是可以讓工件表面呈銀白色，而通過本發(fā)明的方法可以使燒結(jié)釹鐵硼工件出現(xiàn)光澤度，表面非常光亮。與常規(guī)低濃度酸洗比較，本方法具有很好的整平和均勻腐蝕效果。

為達到上述目的，本發(fā)明提供的燒結(jié)釹鐵硼永磁材料化學(xué)拋光處理工藝，其工藝過程和步驟為：

將燒結(jié)釹鐵硼磁體在堿液中脫脂處理。

將脫脂后的燒結(jié)釹鐵硼磁體放入拋光液中拋光，拋光時間10～120s，拋光液溫度25～80℃。拋光液由硝酸、磷酸和硫酸溶于水制得，其中各溶質(zhì)的含量如下：

硝酸????400～900ml/L

磷酸????5～40ml/L

硫酸????5～40ml/L

拋光完成后，清洗磁體，然后活化。較好的，磁體的清洗可以采用超聲波水洗；活化可以分兩步進行：第一步是稀硝酸溶液去氧化膜，所示的硝酸濃度為1～6v％，在室溫下活化時間30～60s；第二步在檸檬酸三鈉溶液中絡(luò)合活化，檸檬酸三鈉的濃度2～6wt％，在室溫下活化60～600s。每步活化前、后均進行超聲波水洗。

永磁體活化后即可根據(jù)需要進行所需的電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等防護處理。