[發明專利]一種燒結釹鐵硼永磁材料化學拋光液及處理方法

有效

• 申請號: 200910100368.4
• 申請日: 2009-07-09
• 公開（公告）號: CN101638782A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發明（設計）人: 宋振綸;李建忠;應華根;楊恒修;吳浩杰
• 申請（專利權）人: 中國科學院寧波材料技術與工程研究所
• 主分類號: C23F3/06
• 分類號: C23F3/06
• 代理公司: 寧波誠源專利事務所有限公司
• 代理人: 袁忠衛

1.一種燒結釹鐵硼永磁材料化學拋光液，其特征在于該拋光液是以水為溶劑，溶液包括

硝酸????400～900ml/L

磷酸????5～40ml/L

硫酸????5～40ml/L

其中所述硝酸的濃度為66～68v％，所述磷酸的濃度為85v％，所述硫酸的濃度為98v％。

2.根據權利要求1所述的燒結釹鐵硼永磁材料化學拋光液，其特征在于所述拋光液的溶液包括

硝酸????700～900ml/L

磷酸????10～20ml/L????

硫酸????10～20ml/L。

3.根據權利要求1所述的燒結釹鐵硼永磁材料化學拋光液，其特征在于所述的化學拋光液的溫度是25～80℃。

4.根據權利要求3所述的燒結釹鐵硼永磁材料化學拋光液，其特征在于所述的化學拋光液的最佳溫度是55～70℃。

5.一種燒結釹鐵硼永磁體化學拋光處理方法，其特征在于包括下述步驟：

①將釹鐵硼永磁體進行堿洗脫脂；

②將燒結釹鐵硼永磁體浸入化學拋光液中拋光，所述的化學拋光液以水為溶劑，溶質為硝酸、磷酸和硫酸，使拋光液中硝酸的含量為400～900ml/L、磷酸的含量為5～40ml/L、硫酸的含量為5～40ml/L；在化學拋光時，燒結釹鐵硼磁體需要翻動，其浸蝕拋光時間為10～120；

③將化學拋光后的釹鐵硼永磁體清洗、活化；

其中所述硝酸的濃度為66～68v％，所述磷酸的濃度為85v％，所述硫酸的濃度為98v％。

6.根據權利要求5所述的燒結釹鐵硼永磁體化學拋光處理方法，其特征在于：所述的拋光時間為60s～90s。

7.根據權利要求5所述的燒結釹鐵硼永磁體化學拋光處理方法，其特征在于：在化學拋光時，釹鐵硼永磁體的翻動為間歇翻動，時間間隔為1～3s。

8.據權利要求5所述的燒結釹鐵硼永磁體化學拋光處理方法，其特征在于：步驟③中的活化分兩步進行，a)采用稀硝酸溶液去除氧化膜；硝酸濃度1～6v％，室溫下活化時間30～60s；b)在檸檬酸三鈉溶液中活化，檸檬酸三鈉濃度2～6wt％，在室溫下活化60～600s。

9.根據權利要求5所述的燒結釹鐵硼永磁體化學拋光處理方法，其特征在于，活化前、后均進行超聲波水洗。

10.根據權利要求5所述的燒結釹鐵硼永磁體化學拋光處理方法，其特征在于所述拋光液的溶液包括

硝酸????700～900ml/L

磷酸????10～20ml/L

硫酸????10～20ml/L；

所述拋光液的溫度為25～80℃。?