[發(fā)明專利]一種太陽能級(jí)單晶硅棒的拋光處理方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910095528.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101498055A | 公開(公告)日: | 2009-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郜勇軍;方建和 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 郜勇軍 |
| 主分類號(hào): | C30B33/10 | 分類號(hào): | C30B33/10;B28D5/00;B24B7/22;B24B9/06 |
| 代理公司: | 杭州天正專利事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 舒 良 |
| 地址: | 324300浙*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽 能級(jí) 單晶硅 拋光 處理 方法 | ||
所屬技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種太陽能級(jí)單晶硅棒的拋光處理方法。
背景技術(shù)
目前,我們?cè)趯?duì)太陽能級(jí)單晶硅棒進(jìn)行拋光時(shí),通常采用酸液腐蝕方法,即將太陽能級(jí)單晶硅棒置于濃度在99%以上的酸液中浸泡,這種方法不僅對(duì)酸的濃度要求高,使用幾次后就作為廢酸處理,廢酸處理難度大,環(huán)保性差,且成本高,而且在浸泡過程中需要經(jīng)常翻動(dòng),并需精確掌握腐蝕時(shí)間,否則腐蝕過度,易出現(xiàn)蝕坑現(xiàn)象,產(chǎn)品質(zhì)量的一致性差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供提高酸液利用率,且產(chǎn)品質(zhì)量一致性及成品率高的一種太陽能級(jí)單晶硅棒的拋光處理方法。
本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:一種太陽能級(jí)單晶硅棒的拋光處理方法,其特征在于將太陽能級(jí)單晶硅棒置于氫氟酸配比濃度較低的酸液中浸泡,除去損傷層,消除棒的應(yīng)力后,再用拋光設(shè)備對(duì)太陽能級(jí)單晶硅棒表面進(jìn)行機(jī)械打磨拋光。
所述的氫氟酸配比濃度較低的酸液為氫氟酸和硝酸比為1:5~8的酸液。
采用本發(fā)明,由于對(duì)酸的腐蝕性要求不高,因此可以使用一些廢酸液生產(chǎn),提高了利用率,降低了成本;同時(shí),腐蝕時(shí)間不需要精確把握,不會(huì)出現(xiàn)蝕坑現(xiàn)象,提高了成品率。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
1、將太陽能級(jí)單晶硅棒置于氫氟酸和硝酸比為1:8的酸液,即氫氟酸配比濃度較低的酸液中浸泡5~20分鐘后,除去損傷層,消除棒的應(yīng)力。
2、用軸向拋光機(jī)對(duì)太陽能級(jí)單晶硅棒表面進(jìn)行機(jī)械打磨拋光,直致拋光成鏡面為止。
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