[發明專利]利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝

無效

• 申請號: 200910094063.7
• 申請日: 2009-01-23
• 公開（公告）號: CN101480634A
• 公開（公告）日: 2009-07-15
• 發明（設計）人: 曾波;王國棟;郭會仙;彭操;劉文彪
• 申請（專利權）人: 云南省化工研究院
• 主分類號: B03D1/02
• 分類號: B03D1/02;C01F5/30;C01D3/04;B03D103/10
• 代理公司: 昆明合眾智信知識產權事務所
• 代理人: 張媛德;范嚴生

1、一種利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝，其特征在于，該方法采用以下步驟：

a.將鉀鹽礦破碎、磨礦和分級，磨礦粒度-20目≥80％，控制礦漿濃度的質量百分比為25％～45％；

b.將步驟a的礦漿引入到礦化槽中，并加入常規的反浮選藥劑與礦漿充分混合；

c.將步驟b的所得物引入浮選分離裝置中，進行反浮選除鈉；

d.礦漿經過位于浮選柱身中上部分的一個或多個給礦點進入浮選柱，并且沿著氣體發泡器系統產生的細小氣泡的上升群下行，與氣泡發生碰撞或粘附的氯化鈉的顆粒上浮到浮選柱的頂端，最終到達礦漿捕收區和礦沫清潔區之間的界面而排出柱外。

e.下降到浮選柱底部的顆粒即為光鹵石精礦，排出浮選柱后經過濃縮、過濾、干燥即得產品。

2、根據權利要求1所述的利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝，其特征在于，鉀鹽礦的組成主要為光鹵石與氯化鈉，光鹵石品位的質量百分比：40％～65％，氯化鈉含量的質量百分比：15～60％。

3、根據權利要求1所述的利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝，其特征在于，經過反浮選后光鹵石的品位達到的質量百分比為85～98％，光鹵石回收率的質量百分比在80～90％。

4、根據權利要求1所述的利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝，其特征在于，所采用的反浮選藥劑為烷基嗎啉，用量為0.00001g/t-0.00012g/t。

5、根據權利要求1所述的利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝，其特征在于，所述的浮選分離裝置為微泡浮選柱。

6、根據權利要求5所述的利用反浮選方法制備低鈉光鹵石的工藝，其特征在于，所述的浮選柱為靜態微泡浮選柱。