[發明專利]上頜骨修復支架及制造方法

有效

• 申請號: 200910091845.5
• 申請日: 2009-08-27
• 公開（公告）號: CN101637413A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發明（設計）人: 歸來;李曉峰;劉燦;姜謙;武星
• 申請（專利權）人: 北京吉馬飛科技發展有限公司
• 主分類號: A61F2/28
• 分類號: A61F2/28;A61L27/04;A61L27/06;A61L27/56
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 吳小燦

技術領域

本發明涉及在醫療臨床的上頜骨缺損修復手術中使用的植入結構體物件，特別是一種能夠符合大面積上頜骨缺損形態修復等要求的上頜骨修復支架及制造方法。

背景技術

由于先天發育問題、基因突變、腫瘤切除或創傷等原因，造成了上頜骨的缺損，同時也影響了患者口腔內部的基本功能，給患者的基本生活造成很大影響。現有的醫療臨床上一般利用微型鈦板和移植自體骨來進行修復。但是此種方法在臨床上的應用有較大局限。首先它只適用于移植腓骨等皮質骨，其次，微型鈦板為統一規格產品，一般只用于修復骨折等創傷，并不能達到大面積上頜骨缺損形態及功能修復等要求，遠遠滿足不了臨床的需求。

發明內容

本發明針對現有技術中存在的缺陷或不足，提供一種能夠符合大面積上頜骨缺損形態修復等要求的上頜骨修復支架及制造方法。所述上頜骨修復支架兼具形態修復和功能修復的作用，從而滿足患者的個性化需求。

本發明的技術方案如下：

上頜骨修復支架，其特征在于，包括上頜骨形支架本體，在所述上頜骨形支架本體的上沿依次分布四個凸起的均帶有沉孔陣列結構的連接區：右側顴骨連接區，右側梨狀孔連接區，左側梨狀孔連接區，和左側顴骨連接區；在所述右側梨狀孔連接區和左側梨狀孔連接區之間是梨狀孔形態修復區；在所述上頜骨形支架本體的下沿分布著上頜植骨區；在所述上頜骨形支架本體的上沿和下沿之間分布著上頜牙槽區；所述上頜植骨區和上頜牙槽區均帶有通孔陣列結構。

所述上頜植骨區具有沿所述上頜骨形支架本體的下沿向后延伸出用于填充松質骨或粉狀骨的U型結構。

所述上頜植骨區具有在所述上頜骨形支架本體的下沿上方位置向后延伸出的角形結構，所述角形結構用于雙面固定植入的塊狀骨。

所述沉孔陣列結構中的沉孔直徑范圍為1.0mm～5.0mm，所述通孔陣列結構中的通孔直徑范圍為1.0mm～5.0mm。

所述沉孔陣列結構中的沉孔與沉孔的中心距范圍為1.0mm～5.0mm，所述通孔陣列結構中的通孔與通孔的中心距范圍為1.0mm～5.0mm。

所述上頜骨形支架本體采用永久性植入顱頜面骨修復的金屬或非金屬材料。

所述上頜骨形支架本體采用滿足13810標準的外科植入物用純鈦或鈦合金材料，或者采用滿足ISO或ASTM標準的六鋁七鈮鈦合金材料。

所述上頜骨修復支架的制造方法，其特征在于包括以下步驟：

A.采集患者包括上頜骨區域的CT或MRI圖像，獲取DICOM格式的圖像數據；

B.利用所述DICOM格式的圖像數據結合三維重建軟件進行三維重建，然后在重建圖像的基礎上進行上頜骨修復支架的設計；

C.所述上頜骨修復支架的設計要求內表面要和所重疊的骨面貼合，外表面要符合修復所需的形態；

D.將所述上頜骨修復支架的設計完成的數據轉換為可加工數據，然后采用數控中心或數控銑床進行數字化加工，加工出上頜骨修復支架的雛形；

E.對上頜骨修復支架進行后期加工處理，其中包括打孔，打磨工序。

醫學中的CT全稱：computed?tomography，CT是一種功能齊全的病情探測儀器，它是電子計算機X射線斷層掃描技術簡稱。

MRI是Magnetic?Resnane?Iamging的簡稱，中文為磁共振成像。cad-Computer?Aided?Design的縮寫，即計算機輔助設計。

DICOM是Digital?Imaging?and?Communications?in?Medicine的英文縮寫，即醫學數字成像和通信標準。在DICOM標準中詳細定義了影像及其相關信息的組成格式和交換方法，利用這個標準，人們可以在影像設備上建立一個接口來完成影像數據的輸入/輸出工作。

本發明的技術效果如下：

本發明的上頜骨修復支架能夠符合大面積上頜骨缺損形態修復，兼具形態修復和功能修復的作用，從而滿足患者的個性化需求。

本發明的上頜骨修復支架及制造方法，不僅具有個性化特點，而且兼具形態修復和功能修復的作用。本發明的上頜骨修復支架主要針對于上頜骨的大面積缺損修復，為其提供一種整體解決方案。修復支架整體形態和患者上頜形態相擬合，支架具有植骨槽，便于醫生進行自體骨的移植和種植牙等一系列的手術。

附圖說明

圖1是本發明上頜骨修復支架的結構示意圖。

圖2是圖1的俯視圖。

圖3是本發明上頜骨修復支架的使用狀態圖。

附圖標記列示如下：