[發明專利]上頜骨修復支架及制造方法

有效

• 申請號: 200910091845.5
• 申請日: 2009-08-27
• 公開（公告）號: CN101637413A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發明（設計）人: 歸來;李曉峰;劉燦;姜謙;武星
• 申請（專利權）人: 北京吉馬飛科技發展有限公司
• 主分類號: A61F2/28
• 分類號: A61F2/28;A61L27/04;A61L27/06;A61L27/56
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 吳小燦

1.上頜骨修復支架，其特征在于，包括上頜骨形支架本體，在所述上頜骨形支架本體的上沿依次分布四個凸起的均帶有沉孔陣列結構的連接區：右側顴骨連接區，右側梨狀孔連接區，左側梨狀孔連接區，和左側顴骨連接區；在所述右側梨狀孔連接區和左側梨狀孔連接區之間是梨狀孔形態修復區；在所述上頜骨形支架本體的下沿分布著上頜植骨區；在所述上頜骨形支架本體的上沿和下沿之間分布著上頜牙槽區；所述上頜植骨區和上頜牙槽區均帶有通孔陣列結構。

2.根據權利要求1所述的上頜骨修復支架，其特征在于，所述上頜植骨區具有沿所述上頜骨形支架本體的下沿向后延伸出用于填充松質骨或粉狀骨的U型結構。

3.根據權利要求1所述的上頜骨修復支架，其特征在于，所述上頜植骨區具有在所述上頜骨形支架本體的下沿上方位置向后延伸出的角形結構，所述角形結構用于雙面固定植入的塊狀骨。

4.根據權利要求1所述的上頜骨修復支架，其特征在于，所述沉孔陣列結構中的沉孔直徑范圍為1.0mm～5.0mm，所述通孔陣列結構中的通孔直徑范圍為1.0mm～5.0mm。

5.根據權利要求1所述的上頜骨修復支架，其特征在于，所述沉孔陣列結構中的沉孔與沉孔的中心距范圍為1.0mm～5.0mm，所述通孔陣列結構中的通孔與通孔的中心距范圍為1.0mm～5.0mm。

6.根據權利要求1所述的上頜骨修復支架，其特征在于，所述上頜骨形支架本體采用永久性植入顱頜面骨修復的金屬或非金屬材料。

7.根據權利要求1所述的上頜骨修復支架，其特征在于，所述上頜骨形支架本體采用滿足13810標準的外科植入物用純鈦或鈦合金材料，或者采用滿足ISO或ASTM標準的六鋁七鈮鈦合金材料。

8.如上述權利要求1-7之一所述的上頜骨修復支架的制造方法，其特征在于包括以下步驟：

A.采集患者包括上頜骨區域的CT或MRI圖像，獲取DICOM格式的圖像數據；

B.利用所述DICOM格式的圖像數據結合三維重建軟件進行三維重建，然后在重建圖像的基礎上進行上頜骨修復支架的設計；

C.所述上頜骨修復支架的設計要求內表面要和所重疊的骨面貼合，外表面要符合修復所需的形態；

D.將所述上頜骨修復支架的設計完成的數據轉換為可加工數據，然后采用數控中心或數控銑床進行數字化加工，加工出上頜骨修復支架的雛形；

E.對上頜骨修復支架進行后期加工處理，其中包括打孔，打磨工序。