[發(fā)明專利]一種制備單晶硅絨面的腐蝕液及方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910091826.2 | 申請日: | 2009-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN101634026A | 公開(公告)日: | 2010-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 許穎;勾憲芳;勵旭東;宋爽;張燕鵬;謝芳吉 | 申請(專利權(quán))人: | 北京市太陽能研究所有限公司;江蘇艾德太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/32 | 分類號: | C23F1/32;C30B33/10;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐 寧 |
| 地址: | 10019*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 單晶硅 腐蝕 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種太陽能電池技術(shù)領(lǐng)域,特別是關(guān)于一種制備單晶硅絨面的腐蝕液及方法。
背景技術(shù)
低成本、高效率的太陽能電池一直是人們追逐的焦點,目前單晶硅太陽能電池表面織構(gòu)化是提高太陽能電池轉(zhuǎn)換效率的有效手段之一。通常,織構(gòu)化的方法主要是堿腐蝕法,堿腐蝕法是在堿腐蝕液中加入各種緩沖液,比如異丙醇、乙醇、硅酸鈉等來控制反應(yīng)速度,以得到具有微米量級金字塔形貌的絨面,金字塔形貌的尺寸越小,越均勻,單晶硅的吸光能力越強,太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率也就越高。目前,大規(guī)模太陽能電池生產(chǎn)上主要使用異丙醇作為緩沖液,濃度通常采用5%~10%。但是,由于異丙醇成本較高,揮發(fā)性大,用量大,而且在生產(chǎn)過程中需要不斷的補充溶液,從而導(dǎo)致成本升高。而且上述腐蝕液使得單晶硅腐蝕掉的厚度偏大,厚度越來越薄脆,易斷裂也會使生產(chǎn)成本進一步提高。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題,本發(fā)明的目的是提供一種成本低、優(yōu)質(zhì)的制備單晶硅太陽能電池絨面的腐蝕液及方法。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取以下技術(shù)方案:一種制備單晶硅絨面的腐蝕液,它包括堿溶液、硅酸鈉和異丙醇,其特征在于:它還包括體積百分比為0.2%~1%濃度范圍為5*10-5~5*10-3mol/L的全氟辛酸鹽水溶液。
所述堿溶液的質(zhì)量百分比為1%~2.5%,所述硅酸鈉的質(zhì)量百分比為0.1%~2%,所述異丙醇的體積百分比為0.3%~2%。
所述堿溶液為氫氧化鈉或氫氧化鉀或碳酸鈉。
一種使用上述腐蝕液制備單晶硅絨面的方法,其特征在于:將未清洗的或粗拋的P型或N型單晶硅放入所述腐蝕液中進行腐蝕反應(yīng),反應(yīng)溫度范圍為75~85℃,腐蝕時間范圍為5~18min。
經(jīng)腐蝕反應(yīng)后的所述單晶硅表面形成金字塔邊長為0.5~8μm均勻的絨面。
被腐蝕掉的單晶硅厚度為5~15μm。
本發(fā)明由于采取以上技術(shù)方案,其具有以下優(yōu)點:1、本發(fā)明由于將全氟辛酸鹽溶液加入了由堿溶液、硅酸鈉和異丙醇混合的溶液內(nèi),全氟辛酸鹽作為一種陰離子中性表面活性劑,具有非常高的熱力學(xué)穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性以及很好的相容性,而且能夠在極低的溶液濃度下將水溶液的表面張力降到很低,增強浸潤效果,因此在各種PH值范圍、各類水性、溶劑型體系中性質(zhì)穩(wěn)定,無需短時間補液,因此節(jié)約了成本。2、由于本發(fā)明采用的全氟辛酸鹽濃度極低,其用量與其它緩沖液相比,用量很少,因此進一步節(jié)省了成本。3、本發(fā)明的腐蝕液中由于采用了全氟辛酸鹽溶液作為緩沖液,因此僅花費了5~18min的反應(yīng)時間,得到了金字塔邊長為0.5~8μm均勻的絨面,比較常規(guī)織構(gòu)化時間25~35min有很大的降低,大大地提高了生產(chǎn)效率。4、本發(fā)明方法制備出的單晶硅腐蝕掉的厚度為5~15μm,得到的單晶硅表面為金字塔邊長為0.5~8μm均勻的絨面,因此有利于太陽光的吸收,得到了優(yōu)質(zhì)的單晶硅絨面。本發(fā)明降低了生產(chǎn)成本,制備出的單晶硅太陽能電池絨面大大提高了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率,并能廣泛應(yīng)用在太陽能電池生產(chǎn)領(lǐng)域中。
附圖說明
圖1是在金相顯微鏡下經(jīng)放大400倍的單晶硅絨面形貌圖
圖2是在掃描電鏡下經(jīng)放大488倍的單晶硅絨面形貌圖
圖3是在掃描電鏡下經(jīng)放大977倍的單晶硅絨面形貌圖
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進行詳細(xì)的描述。
本發(fā)明的腐蝕液包括質(zhì)量百分比為1%~2.5%的堿溶液,質(zhì)量百分比為0.1%~2%的硅酸鈉,體積百分比為0.3%~2%的異丙醇和體積百分比為0.2%~1%濃度范圍為5*10-5~5*10-3mol/L的全氟辛酸鹽水溶液。上述堿溶液可以采用氫氧化鈉或氧氫化鉀或碳酸鈉等。
使用本發(fā)明腐蝕液制備單晶硅絨面的方法如下:
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