[發明專利]一種基片處理設備及其頂針升降裝置有效
| 申請號: | 200910088744.2 | 申請日: | 2009-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN101944498A | 公開(公告)日: | 2011-01-12 |
| 發明(設計)人: | 管長樂 | 申請(專利權)人: | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/677;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏曉波;逯長明 |
| 地址: | 100016 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 處理 設備 及其 頂針 升降 裝置 | ||
1.一種頂針升降裝置,用于基片處理設備,包括支撐頂針的固定座,定位桿沿豎直方向穿過所述固定座的中部,且兩者之間具有適當的徑向間隙;所述定位桿的末端與波紋管組件的頂部固定連接;其特征在于,所述固定座具有至少兩個在其周向上均勻分布且具有內螺紋的通孔,各所述通孔中均設置調節螺釘;所述調節螺釘通過外螺紋與所述通孔的內螺紋相配合,且其下端支撐于所述波紋管組件的上表面。
2.根據權利要求1所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述定位桿具體為定位螺釘,其末端可拆裝地安裝于所述波紋管組件的頂部的中心位置。
3.根據權利要求2所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述通孔的數目為三個。
4.根據權利要求3所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述通孔包括光孔以及與所述光孔同軸的螺紋孔,所述光孔位于所述螺紋孔的上方,并能夠容納所述調節螺釘的螺帽;所述調節螺釘通過外螺紋與所述螺紋孔相配合。
5.根據權利要求1至4任一項所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述調節螺釘的末端還設置有鎖緊螺母。
6.根據權利要求5所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述調節螺釘與所述鎖緊螺母的材料均為絕緣材料。
7.根據權利要求6所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述調節螺釘與所述鎖緊螺母的材料均為高純陶瓷。
8.根據權利要求1至4任一項所述的頂針升降裝置,其特征在于,所述定位螺釘為不銹鋼真空螺釘。
9.一種基片處理設備,其特征在于,包括權利要求1至8任一項所述的頂針升降裝置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





