[發明專利]一種鍍膜工藝控制方法及控制系統

有效

• 申請號: 200910087670.0
• 申請日: 2009-06-25
• 公開（公告）號: CN101592926A
• 公開（公告）日: 2009-12-02
• 發明（設計）人: 馬平
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: G05B19/04
• 分類號: G05B19/04
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司
• 代理人: 蘇培華

1.一種鍍膜工藝控制方法，其特征在于，包括：

針對多批次的鍍膜工藝，通過定義對象來編寫每批鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值并保存；其中，所述每批鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值包括單步或多步的配置參數及相應參數值；

在每批鍍膜工藝流程中，自動獲取當前批次的配置參數及相應參數值；

根據所獲取的配置參數及相應參數值，執行鍍膜工藝流程。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過定義對象來編寫每批鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值并保存，包括：

針對每批鍍膜工藝定義一個對象，在每批鍍膜工藝定義的對象中：

針對單步鍍膜工藝定義一個單步對象，單步鍍膜工藝需要的配置參數定義為單步對象的屬性，相應參數值定義為屬性值；

針對多步鍍膜工藝定義一個對象數組，其中每步鍍膜工藝為對象數組中的一個對象，每步鍍膜工藝需要的配置參數定義為相應對象的屬性，相應參數值定義為屬性值；

將多批鍍膜工藝定義的對象通過哈希表保存。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，通過以下方式保存配置參數及相應參數值：

將多批次的鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值序列化為一個文件后進行保存；

通過以下方式自動獲取當前批次的配置參數及相應參數值：

將所保存的文件進行反序列化，然后根據每批鍍膜工藝的標識獲取當前批次的配置參數及相應參數值。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述鍍膜工藝為對硅片的鍍膜工藝。

5.一種鍍膜工藝控制系統，其特征在于，包括：

配置單元，用于針對多批次的鍍膜工藝，通過定義對象來編寫每批鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值，并保存；其中，所述每批鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值包括單步或多步的配置參數及相應參數值；

參數獲取單元，用于在每批鍍膜工藝中，自動獲取當前批次的配置參數及相應參數值；

工藝執行單元，用于根據所獲取的配置參數及相應參數值，執行鍍膜工藝流程。

6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述配置單元包括：

對象定義子單元，用于針對每批鍍膜工藝定義一個對象，在每批鍍膜工藝定義的對象中：針對單步鍍膜工藝定義一個單步對象；針對多步鍍膜工藝定義一個對象數組，其中每步鍍膜工藝為對象數組中的一個對象；

屬性定義子單元，用于針對單步鍍膜工藝需要的配置參數定義為單步對象的屬性，相應參數值定義為屬性值；多步鍍膜工藝中，每步鍍膜工藝需要的配置參數定義為相應對象的屬性，相應參數值定義為屬性值；

存儲子單元，用于將多批鍍膜工藝定義的對象通過哈希表保存。

7.根據權利要求5或6所述的系統，其特征在于，還包括：

加密單元，用于將多批次的鍍膜工藝需要的配置參數及相應參數值序列化為一個文件，然后所述配置單元將所述文件進行保存；

解密單元，用于將所保存的文件進行反序列化，然后所述參數獲取單元根據每批鍍膜工藝的標識獲取當前批次的配置參數及相應參數值。

8.根據權利要求5所述的系統，其特征在于：所述工藝執行單元執行對硅片的鍍膜工藝。