[發(fā)明專利]確定拍攝背景發(fā)生改變的檢測方法及圖像處理設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910086964.1 | 申請日: | 2009-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN101599175A | 公開(公告)日: | 2009-12-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄧亞峰 | 申請(專利權)人: | 北京中星微電子有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00;H04N5/14 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 | 代理人: | 許 靜 |
| 地址: | 100083北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 確定 拍攝 背景 發(fā)生 改變 檢測 方法 圖像 處理 設備 | ||
1.一種確定拍攝背景發(fā)生改變的檢測方法,其特征在于,包括:
確定背景參考圖像中的背景標識區(qū)域;所述背景標識區(qū)域標識源背景中特 征物在所述背景參考圖像中的成像區(qū)域;
利用當前幀圖像,獲取所述背景參考圖像的對比圖像;
將所述背景參考圖像中背景標識區(qū)域內的圖像,與所述對比圖像中相應區(qū) 域內的圖像做比對,得到比對結果;
根據(jù)所述比對結果,檢測當前幀圖像中的拍攝背景與所述源背景是否相 符,若相符,則確定拍攝背景未變;否則,確定拍攝背景發(fā)生改變。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述確定背景參考圖像中 的背景標識區(qū)域包括:
利用邊緣檢測技術,求出所述背景參考圖像中邊緣強度值滿足預設要求的 多個像素點;
算出所述多個像素點能夠形成的所有連通區(qū)域;
從所有連通區(qū)域中選出所述背景標識區(qū)域。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述利用邊緣檢測技術, 從所述背景參考圖像中提取邊緣強度值滿足預設條件的多個像素點包括:
計算所述背景參考圖像上每個像素點的邊緣強度值;
對所述每個像素點的邊緣強度值作濾波處理,得到每個像素點的更新邊緣 強度值;
選出更新邊緣強度值大于預設第一閾值的像素點,用作所述多個像素點。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法,其特征在于,所述對所述每個像素點的 邊緣強度值作濾波處理,得到每個像素點的更新邊緣強度值包括:
根據(jù)預設規(guī)則,選取預設濾波窗內指定像素點的邊緣強度值更新所述像素 點的邊緣強度值,得到所述更新邊緣強度值;
所述濾波窗以所述像素點為中心且具有預設大小。
5.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述從所有連通區(qū)域中選 出所述背景標識區(qū)域包括:
選出面積大于預設第二閾值的連通區(qū)域,用作所述背景標識區(qū)域。
6.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用當前幀圖像,獲 取所述背景參考圖像的對比圖像包括:
對所述當前幀圖像與該當前幀圖像的相鄰幀圖像做差分運算,得到差分圖 像;所述差分圖像包含由所述當前幀圖像與所述相鄰幀圖像上像素值不同的所 有像素點所形成的像素變化區(qū)域;
將所述差分圖像用作所述對比圖像。
7.根據(jù)權利要求6所述的方法,其特征在于,所述將所述背景參考圖像 中背景標識區(qū)域內的圖像,與在所述對比圖像中相應區(qū)域內的圖像做比對包 括:
計算所述背景標識區(qū)域在所述背景參考圖像中所占區(qū)域,與所述像素變化 區(qū)域在所述對比圖像中所占區(qū)域的交集區(qū)域;
檢測所述交集區(qū)域所占面積是否滿足預設要求,所述預設要求包括:所述 交集區(qū)域所占面積與所述背景標識區(qū)域所占面積之間的比值不超過預設第三 閾值。
8.根據(jù)權利要求7所述的方法,其特征在于,
所述得出比對結果包括:所述比值不超過所述第三閾值;
所述根據(jù)所述比對結果,檢測當前幀圖像中的拍攝背景與所述源背景是否 相符包括:檢測出所述拍攝背景與所述源背景相符;或,
所述得出比對結果包括:所述比值超過所述第三閾值;
所述根據(jù)所述比對結果,檢測當前幀圖像中的拍攝背景與所述源背景是否 相符包括:檢測出所述拍攝背景與所述源背景不相符。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京中星微電子有限公司,未經北京中星微電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910086964.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:具有場景支持的面向生成器圖形的編程框架
- 下一篇:從乳中提取蛋白質的方法
- 離子發(fā)生器件、離子發(fā)生單元和離子發(fā)生裝置
- 離子發(fā)生元件、離子發(fā)生單元及離子發(fā)生裝置
- 過熱蒸汽發(fā)生容器、過熱蒸汽發(fā)生裝置以及發(fā)生方法
- 吸收-發(fā)生-再發(fā)生體系與分段發(fā)生吸收式機組
- 泡沫發(fā)生裝置和泡沫發(fā)生方法
- 離子發(fā)生元件、離子發(fā)生單元及離子發(fā)生裝置
- 臭氧發(fā)生管內電極體、臭氧發(fā)生管及臭氧發(fā)生器
- 信號發(fā)生裝置及信號發(fā)生方法
- 微米·納米氣泡發(fā)生方法,發(fā)生噴嘴,與發(fā)生裝置
- 壓力發(fā)生裝置及發(fā)生方法





