[發(fā)明專利]液晶顯示裝置及其彩膜基板的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910080092.8 | 申請日: | 2009-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN101840100A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳維濤;趙凱 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 劉芳 |
| 地址: | 100176 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 顯示裝置 及其 彩膜基板 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器制造領(lǐng)域,特別涉及一種液晶顯示裝置及其彩膜基板的制造方法。
背景技術(shù)
隨著液晶顯示技術(shù)的發(fā)展,具有功耗低、制造成本相對較低和無輻射等特點的薄膜晶體管液晶顯示裝置(TFT?LCD)已經(jīng)成為液晶顯示市場的主流。TFT?LCD是由陣列基板和彩膜基板對盒后,在陣列基板和彩膜基板間注入液晶材料而形成。通常TFT?LCD是利用液晶分子的光學(xué)各向異性和雙折射性來顯示圖像。TFT?LCD通過向兩基板上的電極施加電壓產(chǎn)生的電場來改變液晶分子的取向,從而控制透過彩膜基板的光的量,以達(dá)到獲得需要圖像的目的。
現(xiàn)有技術(shù)中,TFT?LCD通常采用在彩膜基板上設(shè)置柱狀隔墊物來支撐陣列基板和彩膜基板間的液晶盒厚。圖1為現(xiàn)有技術(shù)彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖,圖2為圖1中A-A向剖視圖,圖3為圖1中B-B向剖視圖,如圖1、2和3所示,彩膜基板包括形成于基板1上的黑矩陣圖形2、位于黑矩陣圖形2之上的彩色像素圖形、位于彩色像素圖形之上的公共電極層6和位于公共電極層6之上的柱狀隔墊物7,其中彩色像素圖形包括紅色像素圖形3、綠色像素圖形4和藍(lán)色像素圖形5。在彩膜基板上采用柱狀隔墊物7來支撐液晶盒厚,滿足了大尺寸和高分辨率像素的TFT?LCD的需要。
但是,柱狀隔墊物支撐面積有限,在TFT?LCD受壓時柱狀隔墊物容易產(chǎn)生錯位移動導(dǎo)致液晶盒厚變化,從而導(dǎo)致TFT?LCD產(chǎn)生TOUCH?MURA(液晶顯示裝置亮度不均勻而造成各種瑕疵的現(xiàn)象)不良;在TFT?LCD受壓時柱狀隔墊物產(chǎn)生移動錯位,還會導(dǎo)致TFT?LCD產(chǎn)生漏光不良和對比度降低現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的問題,提出一種液晶顯示裝置及其彩膜基板的制造方法,從而有效改善TOUCH?MURA不良,防止漏光不良和對比度降低現(xiàn)象。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種液晶顯示裝置,包括陣列基板、彩膜基板以及設(shè)置在所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶層,所述彩膜基板包括:
基板;
彩色像素圖形,以矩陣形式設(shè)置于所述基板上;
黑矩陣圖形,包括橫向結(jié)構(gòu)和縱向結(jié)構(gòu),所述黑矩陣圖形支撐于所述陣列基板與所述彩膜基板之間并與所述陣列基板部分接觸,用于遮光和維持所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶盒厚。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明還提供了一種液晶顯示裝置的彩膜基板的制造方法,包括:
步驟1、在基板上形成矩陣形式的彩色像素圖形;
步驟2、在完成步驟1的基板上形成黑矩陣圖形,所述黑矩陣圖形包括橫向結(jié)構(gòu)和縱向結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明實施例利用彩膜基板上位于彩色像素圖形之上的黑矩陣圖形代替現(xiàn)有技術(shù)中的柱狀隔墊物,當(dāng)彩膜基板與陣列基板對盒時,黑矩陣圖形支撐于彩膜基板與陣列基板之間,起到支撐液晶盒厚的作用。相比于現(xiàn)有技術(shù)中的柱狀隔墊物,黑矩陣圖形增加了支撐面積,使液晶盒厚的穩(wěn)定性得到了很大程度的提高,從而有效改善TOUCH?MURA不良;黑矩陣圖形還可以有效避免現(xiàn)有技術(shù)中柱狀隔墊物受壓時容易移動錯位的問題,從而有效防止了從不同視角觀察所帶來的漏光不良和對比度降低現(xiàn)象。
下面通過附圖和實施例,對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1中A-A向剖視圖;
圖3為圖1中B-B向剖視圖;
圖4為本發(fā)明液晶顯示裝置實施例一的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本發(fā)明彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖之一;
圖6為圖5中C-C向剖視圖;
圖7為圖5中D-D向剖視圖;
圖8為圖5中E-E向剖視圖;
圖9為圖5中F-F向剖視圖;
圖10為本發(fā)明液晶顯示裝置實施例二的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖11為本發(fā)明彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖之二;
圖12為圖11中G-G向剖視圖;
圖13為圖11中H-H向剖視圖;
圖14為圖11中I-I向剖視圖;
圖15為圖11中J-J向剖視圖;
圖16為本發(fā)明液晶顯示裝置的彩膜基板的制造方法實施例一的流程圖;
圖17為本發(fā)明液晶顯示裝置的彩膜基板的制造方法實施例二的流程圖。
附圖標(biāo)記說明
1-基板;????????2-黑矩陣圖形;??3-紅色像素圖形;
4-綠色像素圖形;5-藍(lán)色像素圖形;6-公共電極層;
7-柱狀隔墊物;??8-凹槽;????????9-陣列基板;
10-液晶層。
具體實施方式
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





