[發明專利]液晶顯示裝置及其彩膜基板的制造方法

無效

• 申請號: 200910080092.8
• 申請日: 2009-03-18
• 公開（公告）號: CN101840100A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 陳維濤;趙凱
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G03F7/00;G03F1/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種液晶顯示裝置，包括陣列基板、彩膜基板以及設置在所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶層，其特征在于，所述彩膜基板包括：

基板；

彩色像素圖形，以矩陣形式設置于所述基板上；

黑矩陣圖形，包括橫向結構和縱向結構，所述黑矩陣圖形支撐于所述陣列基板與所述彩膜基板之間并與所述陣列基板部分接觸，用于遮光和維持所述陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶盒厚。

2.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述彩色像素圖形連續設置于所述基板上，所述黑矩陣圖形跨越相鄰的所述彩色像素圖形并設置于相鄰的所述彩色像素圖形的邊沿之上。

3.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述彩色像素圖形間隔設置于所述基板上，所述黑矩陣圖形填充于相鄰的所述彩色像素圖形間的間隔區域。

4.根據權利要求3所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述黑矩陣圖形跨越相鄰的所述彩色像素圖形并設置于相鄰所述彩色像素圖形的邊沿之上。

5.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述黑矩陣圖形上開設有凹槽，所述凹槽設置于所述黑矩陣圖形的橫向結構和/或所述黑矩陣圖形的縱向結構上，所述凹槽的深度設置為使液晶能在亞像素間自由流動并能夠起到遮光作用的深度。

6.根據權利要求5所述的液晶顯示裝置，其特征在于，當所述凹槽設置于所述黑矩陣圖形的橫向結構上時，所述凹槽的長度小于等于所述彩色像素圖形中亞像素的橫向寬度；當所述凹槽設置于所述黑矩陣圖形的縱向結構上時，所述凹槽的長度小于等于所述彩色像素圖形中亞像素的縱向長度。

7.根據權利要求1至6任一所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述黑矩陣圖形的材料為具有彈性且不透光的樹脂材料。

8.一種液晶顯示裝置的彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：

步驟1、在基板上形成矩陣形式的彩色像素圖形；

步驟2、在完成步驟1的基板上形成黑矩陣圖形，所述黑矩陣圖形包括橫向結構和縱向結構。

9.根據權利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述步驟2包括：

在完成步驟1的基板上涂敷黑矩陣圖形的材料；

對所述黑矩陣圖形的材料進行掩膜版掩膜；

對經過掩膜版掩膜的黑矩陣圖形的材料進行曝光處理；

對經過曝光處理的黑矩陣圖形的材料進行顯影處理，形成黑矩陣圖形。

10.根據權利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述掩膜版設置有狹縫；

所述對經過掩膜版掩膜的黑矩陣圖形的材料進行曝光處理包括：對經過設置有狹縫的掩膜版掩膜的黑矩陣圖形的材料進行曝光處理；

對經過曝光處理的黑矩陣圖形的材料進行顯影處理，形成黑矩陣圖形包括：對經過曝光處理的黑矩陣圖形的材料進行顯影處理，形成具有凹槽的黑矩陣圖形，所述狹縫對應所述凹槽處。

11.根據權利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述凹槽形成于所述所述黑矩陣圖形的橫向結構和/或所述黑矩陣圖形的縱向結構上。

12.根據權利要求8所述的制造方法，其特征在于，在所述步驟1和所述步驟2之間還包括：

在完成步驟1的基板上形成公共電極層，所述公共電極層位于所述彩色像素圖形和所述黑矩陣圖形之間。