[發(fā)明專利]一種X-射線濾光片的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910076786.4 | 申請日： | 2009-01-21 |
| 公開（公告）號： | CN101475698A | 公開（公告）日： | 2009-07-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張靜 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院高能物理研究所 |
| 主分類號： | C08J5/18 | 分類號： | C08J5/18;C08L101/00;C08L75/04;C08L33/12;C08L77/00;C08L63/00;C08L67/00;C08K3/22;G21K3/00;G01N23/223 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 射線 濾光 制備 方法 | ||
1.一種X-射線濾光片的制備方法，其特征在于，該方法以金屬氧化物納米粒子為基質(zhì)材料，有機(jī)高分子分散液為基底材料，按照1∶5-2∶1的基質(zhì)/基底重量比混合，通過自動涂膜機(jī)和濕膜制備器，制備均勻分散的金屬氧化物納米粒子/有機(jī)高分子薄膜，即得；
其中，所述分散液中有機(jī)高分子濃度為20％。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，金屬氧化物納米粒子與有機(jī)高分子分散液的重量比為1∶2-1∶1。
3.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，包括如下的步驟：
(1)將金屬氧化物粒子加入到有機(jī)高分子材料分散液中，進(jìn)行超聲處理，制備得到金屬氧化物納米粒子/有機(jī)高分子的混合液；
(2)將上述混合液鋪展在自動涂膜機(jī)上，通過調(diào)節(jié)濕膜制備器的厚度，制備均勻分散的金屬氧化物納米粒子/有機(jī)高分子薄膜，應(yīng)用于X-射線濾光片。
4.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬氧化物納米粒子均勻分散的有機(jī)高分子薄膜的厚度為0.06mm-0.25mm。
5.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬氧化物為氧化鐵、氧化鎳、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化銅、氧化鈷、氧化錳、氧化釩、氧化鎵、氧化鍺、氧化鐿、氧化銣或氧化鉬，其粒徑為5nm-100nm。
6.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述有機(jī)高分子為聚氨酯、有機(jī)玻璃、尼龍、環(huán)氧樹脂、醇酸樹脂或聚酯。
7.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述有機(jī)高分子材料分散液為有機(jī)高分子材料分散在乙醇、二甲苯、環(huán)己酮和乙酸乙酯中一種或多種有機(jī)溶劑的分散液。
8.權(quán)利要求1-7任一所述的制備方法制得的X-射線濾光片。
9.如權(quán)利要求8所述的X-射線濾光片，其特征在于，所述X-射線濾光片的厚度為0.06mm-0.25mm。
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