[發(fā)明專利]一種X-射線濾光片的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910076786.4
• 申請(qǐng)日: 2009-01-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101475698A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-07-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張靜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所
• 主分類號(hào): C08J5/18
• 分類號(hào): C08J5/18;C08L101/00;C08L75/04;C08L33/12;C08L77/00;C08L63/00;C08L67/00;C08K3/22;G21K3/00;G01N23/223
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 王朋飛

1.一種X-射線濾光片的制備方法，其特征在于，該方法以金屬氧化物納米粒子為基質(zhì)材料，有機(jī)高分子分散液為基底材料，按照1∶5-2∶1的基質(zhì)/基底重量比混合，通過(guò)自動(dòng)涂膜機(jī)和濕膜制備器，制備均勻分散的金屬氧化物納米粒子/有機(jī)高分子薄膜，即得；

其中，所述分散液中有機(jī)高分子濃度為20％。

2.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，金屬氧化物納米粒子與有機(jī)高分子分散液的重量比為1∶2-1∶1。

3.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，包括如下的步驟：

(1)將金屬氧化物粒子加入到有機(jī)高分子材料分散液中，進(jìn)行超聲處理，制備得到金屬氧化物納米粒子/有機(jī)高分子的混合液；

(2)將上述混合液鋪展在自動(dòng)涂膜機(jī)上，通過(guò)調(diào)節(jié)濕膜制備器的厚度，制備均勻分散的金屬氧化物納米粒子/有機(jī)高分子薄膜，應(yīng)用于X-射線濾光片。

4.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬氧化物納米粒子均勻分散的有機(jī)高分子薄膜的厚度為0.06mm-0.25mm。

5.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述金屬氧化物為氧化鐵、氧化鎳、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化銅、氧化鈷、氧化錳、氧化釩、氧化鎵、氧化鍺、氧化鐿、氧化銣或氧化鉬，其粒徑為5nm-100nm。

6.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述有機(jī)高分子為聚氨酯、有機(jī)玻璃、尼龍、環(huán)氧樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂或聚酯。

7.如權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述有機(jī)高分子材料分散液為有機(jī)高分子材料分散在乙醇、二甲苯、環(huán)己酮和乙酸乙酯中一種或多種有機(jī)溶劑的分散液。

8.權(quán)利要求1-7任一所述的制備方法制得的X-射線濾光片。

9.如權(quán)利要求8所述的X-射線濾光片，其特征在于，所述X-射線濾光片的厚度為0.06mm-0.25mm。