[發(fā)明專利]微波食品包裝阻隔膜及制備法與磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910071214.7
• 申請(qǐng)日: 2009-01-06
• 公開（公告）號(hào): CN101445916A
• 公開（公告）日: 2009-06-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林晶;劉壯;孫智慧;高德;張莉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 哈爾濱商業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/06;B65D65/16
• 代理公司: 哈爾濱市哈科專利事務(wù)所有限責(zé)任公司
• 代理人: 劉 婭

(一)技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種微波食品包裝技術(shù)，具體涉及一種磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置。

(二)背景技術(shù)

近年來，迅速發(fā)展的微波加熱技術(shù)給微波食品的包裝及需經(jīng)微波殺菌消毒的一類商品的包裝提出了更高的要求，即包裝材料不僅要有優(yōu)良的阻隔性能，而且還要耐高溫、微波透過性良好等性能，傳統(tǒng)的包裝薄膜很難全面具備這些特點(diǎn)。因而日本、意大利、德國、英國、美國、加拿大等工業(yè)發(fā)達(dá)國家先后投入了大量的人力物力來研究開發(fā)新型的高阻隔性包裝材料：陶瓷鍍膜包裝材料，爭(zhēng)取在未來的技術(shù)、材料市場(chǎng)上占據(jù)有利地位。這類材料除了阻隔性能可以與鋁塑復(fù)合材料相媲美外，同時(shí)還具有微波透過性好、耐高溫、透明、受環(huán)境溫度影響小等特點(diǎn)，特別在商品保香方面，效果如同玻璃瓶包裝一樣，長期儲(chǔ)存或經(jīng)高溫處理后，不會(huì)產(chǎn)生異味。能廣泛應(yīng)用于食品、藥品、化妝品、醫(yī)療器械等包裝安全衛(wèi)生性能要求高、貨架壽命較長的一類商品的包裝，尤其適合作為微波加熱技術(shù)應(yīng)用的一類商品包裝材料。

(三)發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種生產(chǎn)成本低、生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單、產(chǎn)品質(zhì)量可靠的微波食品包裝阻隔膜及制備法與磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置。

本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的：它是采用PET、OPP、BOPP、PE薄膜作基材，將薄膜卷材上料并施加張力，真空室抽真空，設(shè)定并調(diào)整等離子氣源，薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，薄膜等離子沉積并收卷即得的微波食品包裝阻隔膜。

本發(fā)明微波食品包裝阻隔膜制備方法步驟包括：第一步將薄膜卷材上料并施加張力，第二步真空室抽真空，第三步設(shè)定并調(diào)整兩種等離子惰性氣體氣源，第四步薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積陶瓷氧化物并收卷即可。

本發(fā)明還有這樣一些技術(shù)特征：

1、所述的薄膜卷材上料并施加張力：ZK-H控制器采集主軸與放卷軸的脈沖信號(hào)，通過CPU運(yùn)算，計(jì)算出放卷半徑，根據(jù)卷料半徑、設(shè)定張力、磁粉離合器的制動(dòng)系數(shù)CC、改變輸出激磁電流達(dá)到控制張力的目的，功率電源可輸出0～12/24V，0～4A制動(dòng)電流。

2、所述的兩種等離子惰性氣體氣源包括高純氮?dú)夂蜌鍤猓?/p>

3、所述的等離子處理處理過程：在基材濺射前進(jìn)行氬氣源的等離子處理，處理10分鐘。

4、所述的薄膜等離子沉積陶瓷氧化物過程包括：基材預(yù)處理—上卷—抽真空—通氣—濺射。

本發(fā)明的磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置包括放卷室、鍍膜室和收卷室，放卷室和收卷室內(nèi)設(shè)置有滾軸，鍍膜室內(nèi)設(shè)置有濺射靶和冷卻滾，放卷室、鍍膜室和收卷室之間設(shè)置有分子泵，分子泵連接維持泵，放卷室和收卷室連接羅茨泵，羅茨泵連接機(jī)械泵。其中放卷室、鍍膜室和收卷室之間空氣能夠流通，各自均設(shè)置有箱蓋，在放卷室里放入薄膜，繞過薄膜放卷滾軸，從上面的矩形孔穿出，從鍍膜室的冷卻滾輪下面穿過薄膜，進(jìn)入到收卷室，把卷固定在收卷室的滾軸上即可。

本發(fā)明采用PET、OPP、BOPP、PE薄膜作基材，將薄膜卷材上料并施加張力，真空室抽真空，設(shè)定并調(diào)整等離子氣源，薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，薄膜等離子沉積并收卷即可完成。本發(fā)明涉及一種磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置，是一種連續(xù)饒卷式磁控濺射法生產(chǎn)陶瓷高阻隔膜裝置，該裝置具有6個(gè)濺射靶，可以同時(shí)濺射一種膜層，也可以濺射復(fù)合膜層。本發(fā)明具有生產(chǎn)成本低、生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單、產(chǎn)品質(zhì)量可靠的優(yōu)點(diǎn)，可替代進(jìn)口，節(jié)省大量外匯，經(jīng)濟(jì)效益也很顯著。

(四)附圖說明

圖1是磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

(五)具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明：

本實(shí)施例采用PET、OPP、BOPP、PE薄膜作基材，將薄膜卷材上料并施加張力，真空室抽真空，設(shè)定并調(diào)整等離子氣源，薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，薄膜等離子沉積并收卷即得的微波食品包裝阻隔膜。制備方法步驟包括：第一步將薄膜卷材上料并施加張力，第二步真空室抽真空，第三步設(shè)定并調(diào)整兩種等離子惰性氣體氣源，第四步薄膜放卷進(jìn)行等離子處理，第五步薄膜等離子沉積陶瓷氧化物并收卷即可。薄膜卷材上料并施加張力：ZK-H控制器采集主軸與放卷軸的脈沖信號(hào)，通過CPU運(yùn)算，計(jì)算出放卷半徑，根據(jù)卷料半徑、設(shè)定張力、磁粉離合器的制動(dòng)系數(shù)CC、改變輸出激磁電流達(dá)到控制張力的目的，功率電源可輸出0～12/24V，0～4A制動(dòng)電流。兩種等離子惰性氣體氣源包括高純氮?dú)夂蜌鍤猓坏入x子處理處理過程：在基材濺射前進(jìn)行氬氣源的等離子處理，處理10分鐘。薄膜等離子沉積陶瓷氧化物過程包括：基材預(yù)處理—上卷—抽真空—通氣—濺射。