[發(fā)明專利]微波食品包裝阻隔膜及制備法與磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910071214.7 | 申請日: | 2009-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN101445916A | 公開(公告)日: | 2009-06-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 林晶;劉壯;孫智慧;高德;張莉 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱商業(yè)大學 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/06;B65D65/16 |
| 代理公司: | 哈爾濱市哈科專利事務所有限責任公司 | 代理人: | 劉 婭 |
| 地址: | 150028黑龍江省哈爾濱*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微波 食品包裝 阻隔 制備 磁控濺射 陶瓷 鍍膜 裝置 | ||
1、一種微波食品包裝阻隔膜,其特征在于它是采用PET、OPP、BOPP、PE薄膜作基材,將薄膜卷材上料并施加張力,真空室抽真空,設定并調(diào)整等離子氣源,薄膜放卷進行等離子處理,薄膜等離子沉積并收卷即得的微波食品包裝阻隔膜。
2、一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波食品包裝阻隔膜制備方法,其特征在于步驟包括:第一步將薄膜卷材上料并施加張力,第二步真空室抽真空,第三步設定并調(diào)整兩種等離子惰性氣體氣源,第四步薄膜放卷進行等離子處理,第五步薄膜等離子沉積陶瓷氧化物并收卷即可。
3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種微波食品包裝阻隔膜制備方法,其特征在于所述的薄膜卷材上料并施加張力:ZK-H控制器采集主軸與放卷軸的脈沖信號,通過CPU運算,計算出放卷半徑,根據(jù)卷料半徑、設定張力、磁粉離合器的制動系數(shù)CC、改變輸出激磁電流達到控制張力的目的,功率電源可輸出0~12/24V,0~4A制動電流。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種微波食品包裝阻隔膜制備方法,其特征在于所述的兩種等離子惰性氣體氣源包括高純氮氣和氬氣。
5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種微波食品包裝阻隔膜制備方法,其特征在于所述的等離子處理處理過程:在基材濺射前進行氬氣源的等離子處理,處理10分鐘。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種微波食品包裝阻隔膜制備方法,其特征在于所述的薄膜等離子沉積陶瓷氧化物過程包括:基材預處理—上卷—抽真空—通氣—濺射。
7、一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波食品包裝阻隔膜制備方法的磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置,其特征在于它包括放卷室、鍍膜室和收卷室,放卷室和收卷室內(nèi)設置有滾軸,鍍膜室內(nèi)設置有濺射靶和冷卻滾,放卷室、鍍膜室和收卷室之間設置有分子泵,分子泵連接維持泵,放卷室和收卷室連接羅茨泵,羅茨泵連接機械泵。
8、根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種磁控濺射法陶瓷鍍膜裝置,其特征在于放卷室、鍍膜室和收卷室之間空氣能夠流通,各自均設置有箱蓋。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





