[發(fā)明專利]在聚碳酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯復合板上的減反射膜及制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910068301.7
• 申請日: 2009-03-30
• 公開（公告）號: CN101508191A
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發(fā)明（設計）人: 沈勵;遲曉暉;石富銀
• 申請（專利權）人: 天津美泰真空技術有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B27/06;B32B7/02;C23C14/02;C23C14/32;C23C14/54;C23C14/56;C23C14/06;C23C14/08
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所
• 代理人: 王 麗

技術領域

本發(fā)明涉及一種在聚碳酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯(以下簡稱MR58PC/PMMA)復合板上的減 反射(AR)膜及制備方法，它屬于真空鍍膜的技術領域。

背景技術

現(xiàn)有手機視窗等平板顯示器的AR減反射屏大都是在玻璃或PMMA表面上來鍍減反射膜 層的。由于玻璃存在著易碎和碎后對人體產生傷害等問題，所以手機視窗和手機照相機保 護屏上使用具有AR減反射膜的MR58PC/PMMA復合板材有著很大的優(yōu)勢。盡管MR58PC/PMMA 復合板材存在著放氣嚴重的問題，在該復合板材上真空AR減反射膜的制備方法還存在著 種種難點，因此，如何解決MR58PC/PMMA復合板材材料放氣以及有機物污染的影響，尋求 一種簡單有效的在MR58PC/PMMA復合板材上面制備AR減反射膜的方法，就是業(yè)界研究和 改進的方向。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供一種工藝簡單，加工成本低，鍍膜質量好的MR58PC/PMMA復合 板材

本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的：

本發(fā)明的MR58PC/PMMA復合板3上的減反射膜，其中，減反射膜由二層組成，從靠基 材開始依次是：第一層氟化鎂1，第二層三氧化二鋁2。

在MR58PC/PMMA復合板上的減反射膜，一層厚度為80-120nm的氟化鎂薄膜；第二層 厚度為35-45nm的三氧化二鋁薄膜。

本發(fā)明的在MR58PC/PMMA復合板上的減反射膜的制備方法，步驟如下：

1)將MR58PC/PMMA復合板材進行真空除濕狀態(tài)下烘烤，真空度為1×10^-2Torr-1×10^-3Torr， 溫度60-70度，連續(xù)持續(xù)時間1-3小時；

2)將烘烤后的MR58PC/PMMA復合板材裝入電子槍真空鍍膜機內，進行高真空抽氣，同時 工作溫度為-120℃至-165℃的深冷低溫機輔助抽氣，將殘留在片材表面的水分和材料出氣 徹底清除；

3)當真空度低于3×10^-5torr時，無陰極離子源打開，對材料表面進行清潔處理和表面活 化，時間為60s-120s之間；

4)打開加熱器加熱，使真空室內溫度保持在60-80℃；

5)關閉離子源后繼續(xù)抽高真空，當?shù)竭_低于3×10^-5torr時，先打開坩堝電子槍中的氟化 鎂坩堝加熱至蒸發(fā)溫度，蒸發(fā)出來的氟化鎂沉積在基材表面，當氟化鎂的沉積厚度達到設 定值時；坩堝電子槍中的三氧化二鋁坩堝加熱，三氧化二鋁的沉積厚度達到設定值時關閉 電子槍，每一層沉積的同時應該打開離子源進行輔助；

6)在離子源對材料進行表面活化清洗時應該使用氧氣，流量范圍是：15-30sccm；在 鍍膜時進行離子輔助時氧氣流量為10-20sccm；電子槍蒸發(fā)過程中通氧氣，流量為 10-15sccm。

7)如有需要，可以在完成上述鍍膜后，基片架可以在真空狀態(tài)下自動翻轉，重復上述 3)-6)的鍍膜工藝，完成雙面鍍減反膜。

本發(fā)明通過鍍膜前對MR58PC/PMMA板材的處理和合理的氣體流量以及低于-120℃深 冷低溫機的使用，成功地解決了板材放氣以及材料表面的氧化物對膜層的影響。實施發(fā)明 的在MR58PC/PMMA復合板材AR減反射膜的制備方法，不僅可以在手機視窗上使用，還可 以在數(shù)碼相機鏡頭保護屏和各類便攜式信息產品的液晶顯示器保護屏上使用；其有益效果 在于，通過本發(fā)明提供的工藝對MR58PC/PMMA復合板材進行AR減反射鍍膜，可以得到單 面反射率在1.5％以下的良好減反射效果，既可以單面鍍減反膜，也可以雙面鍍減反膜，使 液晶顯示器的圖像更清晰，尤其在室外場所效果更好。

附圖說明

圖1：本發(fā)明在MR58PC/PMMA復合板上的單面減反射膜示意圖。

圖2：本發(fā)明在MR58PC/PMMA復合板上的雙面減反射膜示意圖。

具體實施方式

下面結合實例對本發(fā)明進行進一步的說明：

實例1