[發明專利]石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐無效
| 申請號: | 200910067394.1 | 申請日: | 2009-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN101665244A | 公開(公告)日: | 2010-03-10 |
| 發明(設計)人: | 杜明彥;宋春俠;范曉剛;楊柳;寧曉初;寧永林 | 申請(專利權)人: | 寧永林 |
| 主分類號: | C01B7/01 | 分類號: | C01B7/01 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 132101吉林省吉林市經濟技*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 制塊孔式下 點火 三合一 鹽酸 合成 | ||
1.一種石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:它包括爐體(1),在爐體(1)的下端固連有爐基座(2),在爐體(1)內的爐基座(2)上置有石墨底座(4),在石墨底座(4)上依次累積置有若干塊石墨制塊孔單體(8),在最上端的石墨制塊孔單體(8)上置有氣液分配盤(21),在氣液分配盤(21)上置有石墨爐頂蓋(24),石墨制塊孔單體(8)上設有具有隔板(30)分隔的冷卻空腔(10)和與冷卻空腔(10)相通的若干個冷卻橫向孔(11),爐體(1)內周壁與石墨底座(4)、依次累積置有若干塊石墨制塊孔單體(8)和氣液分配盤(21)外周壁的間距為第二冷卻水夾套(9),爐體(1)內周壁與石墨爐頂蓋(24)外周壁的間距為第一冷卻水夾套(26),石墨底座(4)上平面至氣液分配盤(21)上平面為氣體合成冷卻吸收段(19),氣液分配盤(21)上平面至石墨爐頂蓋(24)上端為氣液混合室(20),在氣液分配盤(21)上方設有組合式稀酸管(27),在氣液分配盤(21)的若干個成品酸通孔中均裝有石墨制吸收堰(22),由氣液混合室(20)、石墨制吸收堰(22)、氣液分配盤(21)的豎孔、累積的若干塊石墨制塊孔單體(8)的豎孔和石墨底座(4)的集酸槽(13)和成品酸出口(c2)相通構成的成品酸通道,在爐基座(2)的中心裝有伸入氣體合成冷卻吸收段(19)的燈頭(17),燈頭(17)所在的氣體合成冷卻吸收段(19)為燃燒室(18)。
2.根據權利要求1所述的石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:所述的石墨制吸收堰(22)包括直管(31),在直管(31)的上端設置與其內徑呈切線4等分、45°的V型切口(32),在直管(31)的下端設有直徑略小于直管外徑的螺紋(33),在直管(31)與螺紋(33)相結合部位的圓周壁上設置槽口(34),所述槽口(34)的直徑≤螺紋(33)內徑。
3.根據權利要求2所述的石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:所述石墨制吸收堰(22)的直管(31)為酚醛樹脂擠壓石墨管。
4.根據權利要求1所述的石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:所述的燈頭(17)包括氫氣中心管(5),呈間隙套置于氫氣中心管(5)上的氯氣套管(6),呈間隙套置于氯氣套管(6)上的氫氣外管(7)。
5.根據權利要求1所述的石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:在位于燃燒室(18)所在的氣體合成冷卻吸收段(19)不同高度分別設有第一視鏡(14)和第二視鏡(15)。
6.根據權利要求1所述的石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:在所述爐基座(2)與石墨底座(4)之間,在石墨底座(4)與連接的石墨制塊孔單體(8)之間,依次累積的若干塊石墨制塊孔單體(8)相互之間,在最上端的石墨制塊孔單體(8)與氣液分配盤(21)之間,在氣液分配盤(21)與石墨爐頂蓋(24)之間均通過柔性石墨墊片(29)密封。
7.根據權利要求1所述的石墨制塊孔式下點火三合一鹽酸合成爐,其特征是:在所述石墨制爐頂蓋(24)的防爆口(g)內設有防爆花板(25)。
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