[發明專利]一種MOSFET頻率特性偏差檢測器及檢測方法有效
| 申請號: | 200910055782.8 | 申請日: | 2009-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN101621018A | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發明(設計)人: | 任錚;胡少堅;周偉;曹永峰;葉紅波 | 申請(專利權)人: | 上海集成電路研發中心有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;G01R23/10 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人: | 鄭 瑋 |
| 地址: | 201203上海市張江高科*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 mosfet 頻率特性 偏差 檢測器 檢測 方法 | ||
技術領域
本發明涉及集成電路檢測領域,特別是涉及一種集成電路中MOSFET頻率 特性偏差檢測器及檢測方法。
背景技術
隨著集成電路芯片在商業和工業應用中廣泛地使用,集成電路制造工藝也 隨之不斷發展。集成電路設計進入深亞微米時代,當器件尺寸越做越小時,一 個CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)工藝從開發到成熟 定型總會伴隨各種各樣的性能波動,其原因是為了達到給定目標,工藝參數(包 括摻雜,掩模技術等)總是進行不斷的調整,工藝上因此存在偏差。總的來說, 一次工藝樣片的性能參數服從正態分布,而多次樣片的均值又在所謂的guard band(安全帶)內波動。最終工藝會“收斂”在接近理想值或者說特征值,而收 斂所需的時間各個工藝廠商都不相同,大約2~3年左右。期間的任何模型更新 變動都是正常的。也就是說在集成電路仿真設計中,會遇到不同程度的器件模 型與實際器件性能存在偏差,實際器件在不同晶圓的不同位置以及出貨的不同 批次也存在性能波動的情況。
例如65nm工藝,MOSFET的溝道長度只有65nm,互連金屬線的寬度和間 距也只有100nm左右,而加工時所采用的紫光波長是193nm。雖然經過工藝工 程師的不懈努力,工藝已經日趨成熟穩定,但是光波導衍射問題仍然使得加工 中存在較大的工藝偏差,直接影響到實際芯片的性能出現波動。在微米工藝加 工環境下,芯片內(甚至晶圓內)存在的工藝波動不是很大,較大的工藝波動 只存在于各個加工批次之間,由于原材料(單晶硅)的性能不同會出現一些工 藝偏差。這些偏差都需要通過建立不同工作條件的模型、設計時事先就考慮如 何保證各個工作條件下都滿足設計指標來控制。為實現對器件參數的波動分析, 一般來說,在集成電路設計之前需要對器件進行Process corner仿真。Process corner庫需要給出工藝的2~3σ分布值,其中包括MOSFET參數,無源器件波 動,互連寄生波動等等。因此,MOSFET的參數波動情況是必須通過檢測測量 掌握得到。這也就是MOSFET常用的Slow、Typical、Fast三個常用庫的來源。 但是對于納米級工藝,僅僅有限幾個工藝庫已經無法滿足晶圓內、芯片內較大 的工藝波動影響了,需要建立專門針對于工藝波動的模型,建立針對工藝波動 的分析方法,才能得到有效的解決。
發明內容
有鑒于上述的問題,本發明的目的在于提供一種集成電路中MOSFET頻率 特性偏差檢測器,用于在納米級工藝針對晶圓內、芯片內工藝波動對MOSFET 器件頻率特性所產生的影響進行檢測與評估。
本發明提出了一種MOSFET頻率特性偏差檢測器,用以探測集成電路制造 過程中由于半導體工藝引起的MOSFET頻率特性的波動,其包括參考電荷電路、 計數器電路和電壓控制振蕩器(voltage-controlled oscillator,VCO),電壓控制振 蕩器的一端耦接于參考電荷電路,另一端耦接于計數器電路。
本發明所提出的MOSFET頻率特性偏差檢測器,其中參考電荷電路還包括 固定電阻,其一端接地,帶隙電流源,耦接于固定電阻的另一端。
本發明所提出的MOSFET頻率特性偏差檢測器,其中帶隙電流源輸入帶隙 電流與溫度補償電流,通過固定電阻接地,帶隙電流源與固定電阻之間的節點 與地之間的電壓,作為電壓控制振蕩器的控制電壓信號輸入,以得到對應的輸 出電壓信號。
本發明所提出的MOSFET頻率特性偏差檢測器,其中電壓控制振蕩器還包 括第一反相器,其包括第一P型MOS和第一N型MOS,第二反相器,其包括 第二P型MOS和第二N型MOS,第三反相器,其包括第三P型MOS和第三 N型MOS,第一電阻,其一端耦接于第一N型MOS的源極,另一端接地,第 二電阻,其一端耦接于第一N型MOS的漏極,另一端接地,電容,與第二電阻 并聯在第一N型MOS的源極與地之間,其中,第一P型MOS的源極與第一N 型MOS的漏極耦接于第二P型MOS與第二N型MOS的柵極,第二P型MOS 的源極與第二N型MOS的漏極耦接于第三P型MOS與第三N型MOS的柵極, 第三P型MOS的源極與第三N型MOS的漏極耦接于第一P型MOS的柵極。
本發明所提出的MOSFET頻率特性偏差檢測器,其中控制電壓信號通過第 一N型MOS的柵極輸入,輸出電壓信號通過第一N型MOS的漏極輸出。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海集成電路研發中心有限公司,未經上海集成電路研發中心有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910055782.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





