[發(fā)明專利]熱釋光或光釋光劑量學(xué)晶體及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910054968.1 | 申請日: | 2009-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN101603204A | 公開(公告)日: | 2009-12-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李紅軍;楊新波;徐軍;蘇良碧 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | C30B29/28 | 分類號: | C30B29/28;C30B11/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所 | 代理人: | 許亦琳;余明偉 |
| 地址: | 200050上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熱釋光 光釋光 劑量 晶體 及其 制備 方法 | ||
1.一種熱釋光或光釋光劑量學(xué)摻碳釔鋁石榴石單晶,其特征在于,所述摻碳釔鋁石榴石晶體中碳的摻雜量為晶體總質(zhì)量的2000~8000ppm。
2.權(quán)利要求1中所述熱釋光或光釋光劑量學(xué)摻碳釔鋁石榴石單晶的制備方法,包括如下步驟:按配比將原料經(jīng)混料、研磨和成型工藝制得晶體生長原料,然后采用導(dǎo)向溫梯法或下降法在還原氣氛中生長制得;
所述導(dǎo)向溫梯法生長晶體的具體步驟為:在坩堝中放入籽晶,將晶體生長原料放入坩堝內(nèi);將坩堝裝入晶體爐中,抽真空至爐壓<5×10-3pa,持續(xù)升溫至2253~2283K,待晶體生長原料熔化后恒溫0.5~2h,然后以1~5K/h的速率降溫生長晶體;
所述下降法生長晶體的具體步驟為:在坩堝中放入籽晶,將晶體生長原料放入坩堝內(nèi);將坩堝裝入晶體爐中,抽真空至爐壓<5×10-3Pa,持續(xù)升溫至2253~2283K,待原料熔化后恒溫0.5~2h,然后以0.5~3mm/h的速率下降坩堝生長晶體。
3.如權(quán)利要求2中所述熱釋光或光釋光劑量學(xué)摻碳釔鋁石榴石單晶的制備方法,其特征在于,所述原料包括含Al元素原料、含Y元素原料和含C元素原料。
4.如權(quán)利要求3中所述熱釋光或光釋光劑量學(xué)摻碳釔鋁石榴石單晶的制備方法,其特征在于,所述含Al元素原料為α-A12O3;所述含Y元素原料為Y2O3;所述含C元素原料選自碳粉或石墨。
5.如權(quán)利要求2中所述熱釋光或光釋光劑量學(xué)摻碳釔鋁石榴石單晶的制備方法,其特征在于,所述還原氣氛為氫氣氣氛。
6.權(quán)利要求1中所述熱釋光或光釋光劑量學(xué)摻碳釔鋁石榴石單晶在熱釋光或光釋光劑量學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910054968.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





