[發明專利]應用于光電轉化的石墨烯/硫化鎘量子點復合材料的制備方法

無效

• 申請號: 200910050333.4
• 申請日: 2009-04-30
• 公開（公告）號: CN101559918A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: 曹傲能;劉振;常艷麗;范承偉;吳明紅;劉元方
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: B82B3/00
• 分類號: B82B3/00
• 代理公司: 上海上大專利事務所（普通合伙）
• 代理人: 顧勇華

1.一種應用于光電轉化的石墨烯/硫化鎘量子點復合材料的制備方法，其特征在于具有以下 的過程和步驟：

a.單層氧化石墨片和單層石墨烯的制備：用天然石墨粉為原料，加入一定量的濃硫酸、 過硫酸鉀和五氧化二磷，在80℃下均勻混合，使其反應4.5小時；將混合物冷卻至室 溫，用去離子水烯釋后靜置過夜，然后用0.2微米孔的醋酸纖維素膜過濾分離，并用 大量去離子水洗滌，產物在室溫下靜置過夜；將上述產物即預氧化的石墨邊攪拌，邊 加入冷濃硫酸和高錳酸鉀的混合溶液中，在35℃下攪拌后用去離子水烯釋，繼續攪拌， 再加入一定量的過氧化氫溶液；然后將上述溶液過濾，并用稀鹽酸溶液洗滌除去金屬 離子，再用去離子水洗滌除去多余的酸，并多次用水洗滌至中性；最后將產物透析一 周，除去殘留的金屬離子；最終制得氧化石墨片水溶液；再將其進行超聲處理，得到 黃褐色的均一分散的單層氧化石墨片溶液；

取上述均一分散的單層氧化石墨片溶液，按一定比例加入于一定量的還原劑水合肼溶 液中，在95℃下攪拌15小時，經還原反應后，將所得產物過濾，即得到黑色固體單 層石墨烯；

b.石墨烯/硫化鎘量子點復合材料的制備：將上述所得的單層石墨烯為原料，將其與二水 合乙酸鎘(Cd(CH₃COO)₂·2H₂O)以1∶1的比例均勻分散于一定體積的二甲亞砜溶 液中；單層石墨烯與二水合乙酸鎘的配合用量的摩爾比為1∶1；二甲亞砜溶液的用量 以石墨烯的質量為計算基準，即每1毫克石墨烯需加入1毫升二甲亞砜溶液；在經超 聲處理一段時間后，將其轉移到反應釜中，在150～200℃下退火8～16小時，產物經 丙酮和乙醇多次洗滌后，干燥，即得石墨烯/硫化鎘量子點復合材料。