[發(fā)明專利]掩模版承版臺(tái)及其光刻設(shè)備和雙曝光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910048281.7
• 申請(qǐng)日: 2009-03-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101526754A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-09-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 齊寧寧;齊芊楓;李志龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 屈 蘅;李時(shí)云

1.一種掩模版承版臺(tái)，其特征在于，包括：

掩模版保持架；

第一掩模版安裝位與第二掩模版安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架上；

標(biāo)記版安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架中間位置；

多個(gè)掩模版真空吸附槽，分別設(shè)置于所述第一掩模版安裝位與第二掩模版 安裝位中，用以吸附固定掩模版；

角錐棱鏡安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架的一側(cè)，用于安裝角錐棱鏡；

微動(dòng)電機(jī)安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架上；

反射鏡鍍膜面，位于所述掩模版保持架的一側(cè)面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版承版臺(tái)，其特征在于，其中所述第一掩模 版安裝位與第二掩模版安裝位為低于所述掩模版保持架上表面的方形凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版承版臺(tái)，其特征在于，還包括：角錐棱鏡， 安裝于所述角錐棱鏡安裝位。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版承版臺(tái)，其特征在于，還包括：掩模版固 定架，以輔助固定所述掩模版。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版承版臺(tái)，其特征在于，還包括：氣孔堵頭， 以封住所述掩模版保持架上的氣路工藝孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版承版臺(tái)，其特征在于，還包括：微動(dòng)電機(jī)， 設(shè)置于所述微動(dòng)電機(jī)安裝位，用以控制所述掩模版承版臺(tái)的運(yùn)動(dòng)和姿態(tài)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模版承版臺(tái)，其特征在于，所述微動(dòng)電機(jī)包括： 直線電機(jī)，以及音圈電機(jī)。

8.一種光刻設(shè)備，包括：

提供輻射束的照明系統(tǒng)；

將輻射光束投影到基底目標(biāo)位置的投影系統(tǒng)；

用于支撐掩模設(shè)備的掩模版承版臺(tái)及用于支撐基底的工件臺(tái)結(jié)構(gòu)；

其特征在于，所述掩模版承版臺(tái)包括：

掩模版保持架；

第一掩模版安裝位與第二掩模版安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架上；

標(biāo)記版安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架中間位置；

多個(gè)掩模版真空吸附槽，分別設(shè)置于所述第一掩模版安裝位與第二掩模版 安裝位中，用以吸附固定掩模版；

角錐棱鏡安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架的一側(cè)，用于安裝角錐棱鏡；

微動(dòng)電機(jī)安裝位，設(shè)置于所述掩模版保持架上；

反射鏡鍍膜面，位于所述掩模版保持架的一側(cè)面。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述第一掩模版安裝位 與第二掩模版安裝位為低于所述掩模版保持架上表面的方形凹槽。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光刻設(shè)備，其特征在于，還包括角錐棱鏡，安裝 于所述角錐棱鏡安裝位。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光刻設(shè)備，其特征在于，還包括掩模版固定架， 以輔助固定所述掩模版。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光刻設(shè)備，其特征在于，還包括氣孔堵頭，以封 住所述掩模版保持架上的氣路工藝孔。

13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光刻設(shè)備，其特征在于，還包括微動(dòng)電機(jī)，設(shè)置 于所述微動(dòng)電機(jī)安裝位，用以控制所述掩模版承版臺(tái)的運(yùn)動(dòng)和姿態(tài)。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述微動(dòng)電機(jī)包括直 線電機(jī)，以及音圈電機(jī)。