[發(fā)明專利]薄膜晶體管陣列基板及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910046027.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-02-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101800227A | 公開(公告)日: | 2010-08-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周剛;方永學(xué);黃長(zhǎng)虹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海天馬微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/12 | 分類號(hào): | H01L27/12;H01L23/52;H01L21/84;H01L21/768;G02F1/136 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李麗 |
| 地址: | 201201 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜晶體管 陣列 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種薄膜晶體管陣列基板及其 制造方法。
背景技術(shù)
液晶顯示器作為平板顯示器的一種已被廣泛的應(yīng)用在各個(gè)領(lǐng)域中。通常, 液晶顯示器具有兩個(gè)含有用于產(chǎn)生電場(chǎng)的電極的基板,以及設(shè)置在兩基板之 間的液晶層,并通過兩基板上的電極控制施加到該液晶層的電場(chǎng)強(qiáng)度來控制 入射光的透射率,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)顯示面板亮與暗的控制。
所述兩個(gè)含有電極的基板分別為薄膜晶體管(Thin?Film?Transistor,TFT) 陣列基板和濾光片基板,其中薄膜晶體管陣列基板上具有控制像素單元的TFT 器件的陣列。在液晶顯示面板的生產(chǎn)過程中,為避免靜電放電(Electrostatic Discharge,ESD)對(duì)TFT器件的破壞,一般需要在制作過程中將TFT器件的 柵極與源極通過短路桿(Shorting?Bar)進(jìn)行短路。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中一種薄膜晶體管陣列基板的局部俯視圖,圖2為圖1 的C-C方向的剖視圖,如圖1和圖2所示,在薄膜晶體管陣列基板的非顯示 區(qū)域內(nèi),短路桿6與數(shù)據(jù)線層4交疊,它們之間隔有介質(zhì)層(圖中未標(biāo)號(hào)), 由氧化銦錫(Indium-Tin?Oxides,ITO)膜層5組成的短路電極線覆蓋于包括 通孔1和通孔2在內(nèi)的鈍化層3表面上,ITO膜層5分別與所述通孔1底部的 數(shù)據(jù)線層4、所述通孔2底部的短路桿6接觸,將短路桿6與數(shù)據(jù)線層4短路 連接,類似的,短路桿6還可以與柵極線層(圖中未示出)短路連接,從而 將薄膜晶體管陣列基板顯示區(qū)域內(nèi)的TFT器件的柵極或源極短路,而且在電 測(cè)(Cell?Visual?Test)過程中可以通過短路桿向TFT陣列輸入測(cè)試信號(hào)。所述 陣列基板制作并檢測(cè)完成后,再采用激光將所述短路桿燒斷,然后進(jìn)行下一 步工藝。
然而問題在于,實(shí)際生產(chǎn)過程中需要一起刻蝕形成通孔1和通孔2,由于 兩個(gè)通孔相距較近,曝光兩個(gè)通孔的圖案時(shí)對(duì)準(zhǔn)精度的要求較高,兩個(gè)通孔 的深度也不相同,需要采用不同透過率的掩模板,而且,在兩個(gè)相鄰較近的 通孔上沉積短路電極線時(shí),制作精度要求高,因此,這樣的結(jié)構(gòu)制作難度較 大,不利于提高良率。
此外,由于數(shù)據(jù)線層4的截面為倒梯形,導(dǎo)致覆蓋于鈍化層3上的短路 電極線5在短路桿6和數(shù)據(jù)線層4之間的交界位置(見圖1和圖2中箭頭A) 容易斷裂或在電測(cè)時(shí)該位置容易燒毀,圖3為短路桿與柵極線層交界處的電 子顯微照片,其中,(a)圖中箭頭所指為短路電極線斷裂,(b)圖中箭頭所 指為短路電極線燒毀。這種缺陷不僅使短路桿的防靜電功能失效,而且導(dǎo)致 電測(cè)信號(hào)不能正確輸入TFT器件中,不能有效的檢測(cè)薄膜晶體管陣列基板是 否合格。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是提供一種薄膜晶體管陣列基板,制作過程較簡(jiǎn)單, 有利于提高產(chǎn)品的良率。
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種薄膜晶體管陣列基板,包括:
襯底;
所述襯底上的相互交疊的柵極線層和數(shù)據(jù)線層;
位于所述襯底上非顯示區(qū)域內(nèi)的、與所述數(shù)據(jù)線層交疊的短路桿,所述 短路桿與所述柵極線層位于同一層;
所述短路桿與所述數(shù)據(jù)線層之間的隔離絕緣的介質(zhì)層;
覆蓋于所述短路桿和所述數(shù)據(jù)線層上的鈍化層;
還包括:橫跨所述短路桿和數(shù)據(jù)線層交界處的通孔,所述通孔的內(nèi)表面 暴露出短路桿、數(shù)據(jù)線層、以及所述介質(zhì)層;
在所述通孔的內(nèi)表面覆蓋的短路電極線,所述短路電極線將所述數(shù)據(jù)線 層和所述短路桿電性連接。
所述數(shù)據(jù)線層和所述介質(zhì)層的界面,與所述通孔內(nèi)暴露出的數(shù)據(jù)線層側(cè) 面的夾角為銳角或直角。
所述夾角為45度至60度。
所述通孔平行于襯底方向的形狀為啞鈴形。
所述通孔的寬度小于所述短路電極線的寬度。
所述短路電極線的寬度大于所述短路桿的寬度。
所述短路電極線與所述短路桿的寬度差小于或等于2微米。
所述短路桿與所述數(shù)據(jù)線層中的至少兩條數(shù)據(jù)線交疊,每一交疊處的所 述通孔上均覆蓋有短路電極線,各個(gè)短路電極線均相互連接。
所述短路電極線包括透明導(dǎo)電材料。
本發(fā)明還提供另一種薄膜晶體管陣列基板,包括:
襯底;
所述襯底上的相互交疊的柵極線層和數(shù)據(jù)線層;
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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