[發(fā)明專利]薄膜晶體管陣列基板及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910046027.3
• 申請(qǐng)日: 2009-02-05
• 公開（公告）號(hào): CN101800227A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周剛;方永學(xué);黃長(zhǎng)虹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海天馬微電子有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/12
• 分類號(hào): H01L27/12;H01L23/52;H01L21/84;H01L21/768;G02F1/136
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李麗

1.一種薄膜晶體管陣列基板，包括：

襯底；

所述襯底上的相互交叉且中間具有介質(zhì)層的柵極線層和數(shù)據(jù)線層；

位于所述襯底上非顯示區(qū)域內(nèi)的、與所述數(shù)據(jù)線層交叉且與所述數(shù)據(jù)線 層之間具有介質(zhì)層的短路桿，所述短路桿與所述柵極線層位于同一層；

所述短路桿與所述數(shù)據(jù)線層之間的隔離絕緣的介質(zhì)層；

覆蓋于所述短路桿和所述數(shù)據(jù)線層上的鈍化層；其特征在于，

還包括：橫跨所述短路桿和數(shù)據(jù)線層交界處的通孔，所述通孔的內(nèi)表面 暴露出短路桿、數(shù)據(jù)線層、以及所述介質(zhì)層；

在所述通孔的表面覆蓋的短路電極線，所述短路電極線將所述數(shù)據(jù)線層 和所述短路桿電性連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述數(shù)據(jù) 線層和所述介質(zhì)層的界面，與所述通孔內(nèi)暴露出的數(shù)據(jù)線層側(cè)面的夾角為銳 角或直角。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述夾角 為45度至60度。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述通孔 平行于襯底方向的形狀為啞鈴形。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述通孔 的寬度小于所述短路電極線的寬度。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述短路 電極線的寬度大于所述短路桿的寬度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述短路 電極線與所述短路桿的寬度差小于或等于2微米。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述短路 桿與所述數(shù)據(jù)線層中的至少兩條數(shù)據(jù)線交疊，每一交疊處的所述通孔上均覆 蓋有短路電極線，各個(gè)短路電極線均相互連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于， 所述短路電極線包括透明導(dǎo)電材料。

10.一種薄膜晶體管陣列基板，包括：

襯底；

所述襯底上的相互交叉且中間具有介質(zhì)層的柵極線層和數(shù)據(jù)線層；

位于所述襯底上非顯示區(qū)域內(nèi)的、與所述柵極線層交叉且與所述柵極線 層之間具有介質(zhì)層的短路桿，所述短路桿與所述數(shù)據(jù)線層位于同一層；

所述短路桿與所述柵極線層之間的隔離絕緣的介質(zhì)層；

覆蓋于所述短路桿和所述柵極線層上的鈍化層；其特征在于，

還包括：橫跨所述短路桿和柵極線層交界處的通孔，所述通孔的內(nèi)表面 暴露出短路桿、柵極線層、以及所述介質(zhì)層；

在所述通孔內(nèi)表面覆蓋的短路電極線，所述短路電極線將所述柵極線層 和所述短路桿電性連接。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述柵 極線層和所述介質(zhì)層的界面，與所述通孔內(nèi)暴露出的柵極線層側(cè)面的夾角為 銳角或直角。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述夾 角為45度至60度。

13.一種薄膜晶體管陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：

提供襯底，所述襯底上具有相互交叉且中間具有介質(zhì)層的柵極線層和數(shù) 據(jù)線層，與所述數(shù)據(jù)線交叉且與所述數(shù)據(jù)線層之間具有介質(zhì)層的短路桿，所 述短路桿與所述數(shù)據(jù)線層之間的隔離絕緣的介質(zhì)層，覆蓋于所述短路桿和所 述數(shù)據(jù)線層上的鈍化層；

在所述鈍化層上形成光刻膠層，所述光刻膠層中具有橫跨短路桿和數(shù)據(jù) 線交界處的通孔的圖案；

以所述光刻膠層為掩膜對(duì)所述鈍化層進(jìn)行刻蝕，在所述鈍化層中形成所 述通孔，以暴露出所述短路桿、數(shù)據(jù)線層、以及介質(zhì)層；

在所述通孔表面沉積短路電極線。