[發明專利]一種高精度控制廢蝕刻液內各離子濃度提銅的方法無效
| 申請號: | 200910037528.5 | 申請日: | 2009-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN101498008A | 公開(公告)日: | 2009-08-05 |
| 發明(設計)人: | 蹇豐;劉鑫 | 申請(專利權)人: | 東莞市華聯環保工程有限公司 |
| 主分類號: | C25C1/12 | 分類號: | C25C1/12;C02F1/461;C02F103/16 |
| 代理公司: | 東莞市創益專利事務所 | 代理人: | 李衛平 |
| 地址: | 523000廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高精度 控制 蝕刻 液內各 離子 濃度 方法 | ||
技術領域:
本發明涉及印制板廠蝕刻廢液的處理技術領域,特指一種在廢蝕刻液內提銅的方法。
背景技術:
生產中,通常需要對廢蝕刻液進行循環再生,以節約成本和能源,減少排污。現有蝕刻液處理方式有多種,但存在有效率低、工藝復雜,生產成本高的缺陷。
發明內容:
本發明的目的在于提供一種高精度控制各離子濃度以提取金屬銅,且余液得以循環再生的方法。
為達到上述目的,本發明采用如下技術方案:
一種高精度控制廢蝕刻液內各離子濃度提銅的方法,先是控制各離子濃度,然后再從廢蝕刻液中提銅,提銅是在電解槽中進行,廢蝕刻液內各離子濃度為:銅離子:20-50g/L,氯離子:150-170g/L,PH值:8.0-9.5,且回用再生液,循環提銅。
電解槽陰陽極距在20-50mm之間,可調;電流密度范圍在100-1000A/m2。
再生液內各離子濃度控制范圍在:氯離子:160-175g/L,PH值控制在9.8-10.2。
本發明通過高精度控制廢蝕刻液內各離子濃度直接電解法提銅,處理方法簡單,易操作,生產成本低,且能按照工藝要求高精度控制再生液內各離子濃度以達到生產工藝要求,實現對廢蝕刻液進行循環再生使用,節約成本和能源,減少排污,提升環境效益、經濟效益和社會效益。
附圖說明:
附圖1為本發明的實施原理圖。
具體實施方式:
以下結合附圖對本發明進一步說明:
參閱圖1所示,本發明先是控制各離子濃度,然后再從廢蝕刻液中提銅,提銅是在電解槽中進行,廢蝕刻液內各離子濃度為:銅離子:20-50g/L,氯離子:150-170g/L,PH值:8.0-9.5,提銅后所得的余液經過回用再生使用,用于循環提銅操作。
本發明中,電解槽陰陽極距在20-50mm之間,可調;電流密度范圍控制在100-1000A/m2。再生液內各離子濃度控制范圍在:氯離子:160-175g/L,PH值控制在9.8-10.2。
本發明的工作原理如下:
銅離子的氧化性在銅離子濃度為20-50g/L,氯離子濃度為:150-170g/L,PH值為:8.0-9.5的條件下很微弱,即此時蝕刻液的蝕刻性能最弱,在這種情況下外加電場直接電解即可提出金屬銅,將金屬銅從混合液中釋出。提銅后的余液經過高精度控制回用再生液調配裝置中進行調配處理,以控制再生液內各離子濃度控制范圍,如氯離子:165g/L或170g/L,PH值控制在10,從而能按照工藝要求高精度控制再生液內各離子濃度以達到生產工藝要求,實現廢蝕刻液進行循環再生使用。
實施例1:
通過高精度控制各離子濃度裝置將廢蝕刻液內各離子濃度為:銅離子:25g/L,氯離子:160g/L,PH值:9,這時外加電場直接電解即可提出金屬銅(即在電解槽中進行),正價銅離子獲得電子還原為零價銅,從而實現提銅。提銅后的余液經過高精度控制回用再生液調配裝置中進行調配處理,以控制再生液內各離子濃度控制范圍,如氯離子:168g/L,PH值控制在10.1,從而能按照工藝要求高精度控制再生液內各離子濃度以達到生產工藝要求,實現廢蝕刻液進行循環再生使用。
本發明的優勢為:工藝簡捷,不用外加任何輔助試劑即可提取金屬銅,較少耗材,設備制作成本低。
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