[發明專利]一種高精度控制廢蝕刻液內各離子濃度提銅的方法無效
| 申請號： | 200910037528.5 | 申請日： | 2009-02-25 |
| 公開（公告）號： | CN101498008A | 公開（公告）日： | 2009-08-05 |
| 發明（設計）人： | 蹇豐;劉鑫 | 申請（專利權）人： | 東莞市華聯環保工程有限公司 |
| 主分類號： | C25C1/12 | 分類號： | C25C1/12;C02F1/461;C02F103/16 |
| 代理公司： | 東莞市創益專利事務所 | 代理人： | 李衛平 |
| 地址： | 523000廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高精度 控制 蝕刻 液內各 離子 濃度 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種高精度控制廢蝕刻液內提銅的方法，先是控制各離子濃度，然后再從廢蝕刻液中提銅，其特征在于：提銅是在電解槽中進行，廢蝕刻液內各離子濃度為：銅離子：20-50g/L，氯離子：150-170g/L，PH值：8.0-9.5，且回用再生液，循環提銅。
2、根據權利要求1所述的高精度控制廢蝕刻液內各離子濃度提銅的方法，其特征在于：電解槽陰陽極距在20-50mm之間，可調；電流密度范圍在100-1000A/m2。
3、根據權利要求1所述的高精度控制廢蝕刻液內各離子濃度提銅的方法，其特征在于：再生液內各離子濃度控制范圍在：氯離子：160-175g/L，PH值控制在9.8-10.2。
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