[發明專利]甲基磺酸鹽鍍液電鍍軸瓦減摩層的方法

無效

• 申請號: 200910037065.2
• 申請日: 2009-02-04
• 公開（公告）號: CN101503811A
• 公開（公告）日: 2009-08-12
• 發明（設計）人: 曾育才;唐春保
• 申請（專利權）人: 嘉應學院
• 主分類號: C25D3/56
• 分類號: C25D3/56;F16C33/06;F16C33/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種甲基磺酸鹽鍍液電鍍軸瓦減摩層的方法，其特征在于：

(1)軸瓦超聲波除油后清洗，軸瓦上掛進行陰極電解除油后清洗；

(2)軸瓦用體積比為1∶3配成的稀鹽酸活化1～2min后清洗，軸瓦放入甲基磺酸鹽鍍液中，在室溫下用含錫10％的鉛錫合金作陽極，陰極電流密度2～3A/dm²對軸瓦內表面電鍍18～22min后清洗，軸瓦內表面得到鉛錫銅鍍層，所述的甲基磺酸鹽鍍液配方是含甲基磺酸110～145g/L、甲基磺酸鉛以pb²⁺計85～110g/L、甲基磺酸亞錫以Sn²⁺計8～14g/L、甲基磺酸銅以Cu²⁺計1.5～4g/L、明膠2～5.5g/L和間苯二酚5～8g/L；

(3)將內表面鍍有鉛錫銅鍍層的軸瓦放入含氫氧化鈉為10g/L、含錫酸鈉為85g/L的鍍錫液中，在75～80℃下鋼板作陽極，陰極電流密度為1～1.5A/dm²對整塊軸瓦電鍍3～8min，軸瓦表面得到鍍錫層。