[發(fā)明專利]多層共擠吹膜設(shè)備和多層共擠吹膜工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910037013.5 | 申請(qǐng)日: | 2009-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101480847A | 公開(公告)日: | 2009-07-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳新輝;黃虹;李浩;林梓生;孫偉龍;蔣中成;袁漢清;林永忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 馬鎮(zhèn)鑫 |
| 主分類號(hào): | B29C55/28 | 分類號(hào): | B29C55/28;B29C47/60;B29C47/20;B29C47/08;B29C47/92;B29C47/06 |
| 代理公司: | 汕頭市高科專利事務(wù)所 | 代理人: | 黃河長(zhǎng) |
| 地址: | 515064廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多層 共擠吹膜 設(shè)備 工藝 | ||
1.一種多層共擠吹膜設(shè)備,包括吹膜機(jī)頭、冷卻裝置、定型裝置、剖切裝置、牽引裝置、卷取裝置,吹膜機(jī)頭設(shè)有環(huán)形模口間隙和兩條表層環(huán)形流道、若干條基層環(huán)形流道,每條表層環(huán)形流道對(duì)應(yīng)連接有一臺(tái)表層擠出機(jī),每條基層環(huán)形流道對(duì)應(yīng)連接有一臺(tái)基層擠出機(jī),各表層擠出機(jī)和基層擠出機(jī)分別設(shè)有料筒和螺桿,各螺桿依次設(shè)有加料段、壓縮段、計(jì)量段,其特征在于:其中一臺(tái)或兩臺(tái)表層擠出機(jī)的螺桿在計(jì)量段后面還設(shè)有加氣段,加氣段的螺槽深度大于計(jì)量段的螺槽深度,在加氣段對(duì)應(yīng)位置的料筒側(cè)壁還開設(shè)有氣體輸入口,氣體輸入口連接有氣體輸入設(shè)備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層共擠吹膜設(shè)備,其特征在于:螺桿加氣段的螺槽深度相當(dāng)于計(jì)量段的螺槽深度的2~7倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多層共擠吹膜設(shè)備,其特征在于:螺桿加氣段的螺槽深度相當(dāng)于計(jì)量段的螺槽深度的3~5倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的多層共擠吹膜設(shè)備,其特征在于:所述設(shè)有加氣段的表層擠出機(jī)對(duì)應(yīng)的表層環(huán)形流道設(shè)有弧形小擋塊。
5.一種多層共擠吹膜工藝,用兩臺(tái)表層擠出機(jī)和若干臺(tái)基層擠出機(jī)分別將塑料原料加熱熔融、在壓縮段壓縮、在計(jì)量段計(jì)量后,將各臺(tái)表層擠出機(jī)的熔融物料擠入對(duì)應(yīng)的表層環(huán)形流道,將各臺(tái)基層擠出機(jī)的熔融物料擠入對(duì)應(yīng)的基層環(huán)形流道,然后各表層環(huán)形流道和基層環(huán)形流道的熔融物料由環(huán)形模口間隙共同擠出形成膜泡,經(jīng)過吹脹、冷卻定型、剖切、牽引后收卷;其特征在于:其中一臺(tái)或兩臺(tái)表層擠出機(jī)中的熔融物料在壓縮段壓縮、在計(jì)量段計(jì)量后還再輸送到加氣段,加氣段的螺槽深度大于計(jì)量段的螺槽深度,在加氣段對(duì)應(yīng)位置的料筒側(cè)壁還開設(shè)有氣體輸入口,熔融物料的壓力在加氣段下降,同時(shí)由氣體輸入設(shè)備向所述表層擠出機(jī)料筒側(cè)壁的氣體輸入口輸入穩(wěn)定氣體,熔融物料與穩(wěn)定氣體混合后才擠入所述對(duì)應(yīng)的表層環(huán)形流道。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多層共擠吹膜工藝,其特征在于:所述穩(wěn)定氣體為N2、CO2、He、Ne、Ar中的一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的多層共擠吹膜工藝,其特征在于:熔融物料的壓力在加氣段下降到15~25MPa。
8.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的多層共擠吹膜工藝,其特征在于:熔融物料在計(jì)量段的壓力控制在30~50MPa。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的多層共擠吹膜工藝,其特征在于:熔融物料在計(jì)量段的壓力控制在30~50MPa。
10.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的多層共擠吹膜工藝,其特征在于:利用弧形小擋塊將所述加入穩(wěn)定氣體的表層擠出機(jī)對(duì)應(yīng)的表層環(huán)形流道的其中一段遮擋,使膜泡擠出時(shí),膜泡表層缺失一段弧形段,而在該弧形段露出光滑的基層。
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