[發明專利]一種酚類納米硅膠表面分子印跡材料的制備方法

無效

• 申請號: 200910029992.X
• 申請日: 2009-03-26
• 公開（公告）號: CN101543765A
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發明（設計）人: 胡琴;朱榮;魏芳弟;趙文慧;蔡政;李飛
• 申請（專利權）人: 南京醫科大學
• 主分類號: B01J20/283
• 分類號: B01J20/283;B01J20/30
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司
• 代理人: 陸志斌

1.一種酚納米硅膠表面分子印跡材料的制備方法，其特征在于制備步驟為：

a.將納米級SiO₂加入到致孔劑中，超聲分散均勻；所述SiO₂的質量與致孔劑的體積比例g/mL為0.01～0.02∶1；

b.向上步所得含有SiO₂的致孔劑中加入模板分子、功能單體和交聯劑正硅酸四乙酯，所述納米級SiO₂的質量與模板分子的摩爾比例g/mmol為0.05～0.5∶1，交聯劑與功能單體的體積比為2～4∶1，模板分子與功能單體的摩爾比例為0.1～0.33∶1；在溫度10～40℃下攪拌反應液10～24h后離心，將離心后所得固體烘干；將烘干所得固體用有機溶劑和無機酸的混合溶液洗滌，去除未反應的功能單體、模板分子和交聯劑，再用稀堿液和超純水洗滌固體至洗脫液為中性，離心后所得固體在80～100℃烘干，得到酚納米硅膠表面分子印跡材料；所述模板分子為：雙酚A、聯苯二酚、四溴雙酚A、叔丁基苯酚、己烯雌酚、壬基酚或己烷雌酚；所述功能單體為：氨丙基三乙氧基硅烷、氨丙基三甲氧基硅烷或N-(2-氨乙基)-氨丙基三甲氧基硅烷。

2.根據權利要求1所述一種酚納米硅膠表面分子印跡材料的制備方法，其特征在于所述納米級SiO₂粒徑范圍為100～400nm。

3.根據權利要求1所述一種酚納米硅膠表面分子印跡材料的制備方法，其特征在于所述致孔劑為甲醇、乙醇或者兩者任意比例混合。

4.根據權利要求1所述一種酚納米硅膠表面分子印跡材料的制備方法，其特征在于所述有機溶劑和無機酸的混合溶液，有機溶劑為甲醇，無機酸為鹽酸，所述鹽酸濃度為1.0～6mol/L，二者混合體積比為1∶0.5～1∶3。

5.根據權利要求1所述一種酚納米硅膠表面分子印跡材料的制備方法，其特征在于所述稀堿液為NaOH、KOH或者兩者任意比例混合的水溶液，堿濃度為0.05～0.2mol/L。