[發明專利]一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝

無效

• 申請號: 200910025905.3
• 申請日: 2009-03-13
• 公開（公告）號: CN101575694A
• 公開（公告）日: 2009-11-11
• 發明（設計）人: 俞葉
• 申請（專利權）人: 宜興市科興合金材料有限公司
• 主分類號: C23C10/28
• 分類號: C23C10/28;C23C10/60;C25D3/50;C25D5/50;C25D5/34;C23F17/00
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙)
• 代理人: 柏尚春

1.一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1，將鉬圓片置于800℃退火爐中在真空狀態或氫氣下退火2小時，退火時鉬圓片豎直擺放；

步驟2，研磨鉬圓片至平面度在3μm以下，之后清洗干凈至粗糙度Ra為0.3μm以下；采用除油污超聲波清洗機用蒸餾水清洗10分鐘，然后進行表面活化；

步驟3，將鉬圓片置于充滿釕離子溶液的電解槽中，進行電解還原，形成覆蓋在鉬圓片表面均勻的釕膜層，用蒸餾水沖洗鉬圓片；

步驟4，把鉬圓片放入氫氣爐加熱至800℃后滲透合金1個小時；

步驟5，在氫氣保護下空冷至100℃以下，之后取出鉬圓片；

步驟6，采用除油污超聲波清洗機用蒸餾水清洗鉬圓片10分鐘；

步驟7，重復步驟3～步驟6，循環操作1～10次；

步驟8，將鉬圓片置于氫氣爐700℃恒溫釕層擴散，滲透合金化，時間為15分鐘，之后置于惰性氣體室冷卻到室溫；

所述超大直徑鉬圓片為直徑大于5英寸的鉬圓片。

2.根據權利要求1所述的一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，步驟2中，鉬圓片清洗干凈使用5％的氨基磺酸進行表面活化。

3.根據權利要求1所述的一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，步驟3中，所述電解槽為離子隔膜槽。

4.根據權利要求1所述的一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，所述釕溶液為K₃[Ru₂NCl₈(H₂O)₂]溶液。

5.根據權利要求4所述的一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，電解槽中的釕溶液參數如下：溫度，50～55℃；pH值，1.0～1.5；釕離子濃度為，5～5.4g/L；在電解槽中反應2～5分鐘，形成覆蓋在鉬圓片表面均勻的0.03μm～0.05μm釕膜層。

6.根據權利要求1所述的一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，步驟4中，氫氣爐為分體式氫氣爐。

7.根據權利要求6所述的一種超大直徑鉬圓片表面滲釕工藝，其特征在于，步驟8中，所述氫氣爐為鏈式爐。