[發明專利]一種場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法無效
| 申請號: | 200910022855.3 | 申請日: | 2009-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN101577200A | 公開(公告)日: | 2009-11-11 |
| 發明(設計)人: | 張斌 | 申請(專利權)人: | 彩虹集團公司 |
| 主分類號: | H01J9/00 | 分類號: | H01J9/00;H01J9/02 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 | 代理人: | 徐文權 |
| 地址: | 71202*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發射 顯示器 三重 介質 層下基板 制作方法 | ||
技術領域
本發明屬于場致發射顯示器Field?Emission?Display技術領域,特別涉及一種場致發射顯示器的下基板陰、柵極及陰柵極間絕緣介質層的制作方法。
背景技術
場致發射顯示器件(FED)作為新型的顯示器件和顯示技術,是平板顯示器件中發光原理最接近陰極電極層射線管(CRT)的一種平板顯示器件,并認為是真正有可能與等離子體(PDP)和液晶顯示器件(LCD)相競爭的平板顯示器。但是由于目前尚有較多的技術難題尚未得到有效地解決,從而限制了FED在實際生產與生活中的應用普及。在眾多技術難題中,最為關鍵的就是下基板的制作,因為下基板擔負著引出電子發射電子的任務,電子發射的強度、密度、均勻性直接影響到FED的顯示效果。因此下基板既要保證具備較低的引出電壓,又要保證介質層的絕緣性且具備較高的擊穿電壓,同時種植發射體的過程中還要必須保證介質層能夠經受住一定時間的酸、堿及中性溶液的浸泡,浸泡之后還必須具備較高的擊穿電壓,因此對介質的選料、厚度、制作工藝都提出了很高的要求。同時我們知道介質層的厚度只有30個微米,柵極和陰極電極層的距離很近,因此在柵極上施加較低的電壓,就容易在陰極電極層的頂端形成較強的電場強度。單層或雙層絕緣介質由于工藝的原因無法在生產中保證陰柵極之間的絕緣性,燒結后由于缺陷或者灰塵的原因造成的短路現象較為嚴重。
發明的內容
針對現有技術中陰柵極之間的絕緣性差,燒結后造成短路現象較為嚴重的技術問題,本發明提供一種場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法,包括如下步驟:
1)在玻璃基板上依次印刷柵極電極層和第一感光介質層,在100~130℃條件下干燥10~30分鐘,柵極電極層厚度為10~30微米,第一感光介質層厚度10~30微米;
2)利用柵極掩膜板覆蓋第一感光介質層和柵極電極層,對第一感光介質層和柵極電極層進行一次性曝光顯影,得到柵極線條圖案;
3)使用刻蝕介質漿料在第一感光介質層上面印刷刻蝕型介質層,在100~130℃條件下干燥10~30分鐘,刻蝕型介質層厚度10~15微米;
4)對上述步驟得到的電極介質共燒,升溫速率為4~6℃/分鐘,燒結曲線為從室溫升到370~380℃恒溫20分鐘,再升到570~580℃恒溫20分,后自然冷卻至室溫后取出;
5)在步驟4)電極介質共燒冷卻后,使用感光介質漿料在刻蝕介質層上面印刷第二感光介質層,厚度為10~15微米,在100~130℃條件下干燥10~30分鐘,再在第二感光介質層上面印刷陰極電極層,陰極電極層厚度10~20微米;
6)利用陰極掩膜板覆蓋第二感光介質層和陰極電極層,對第二感光介質層和陰極電極層進行一次性曝光顯影,得到陰極線條圖案;
7)對上述步驟得到的各介質層進行第二次電極介質共燒,升溫速率為4~6℃/分鐘,燒結曲線同樣為從室溫升到370~380℃恒溫20分鐘,再升到570~580℃恒溫20分鐘,后自然冷卻至室溫后取出;
8)利用陰極電極層與第三層介質作為掩膜,用濕法刻蝕機刻蝕第二層介質,得到相互垂直的陰極圖案線條與柵極圖案線條,完成下基板電極的制作。
本發明的場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法解決了FED下基板制作過程中陰柵極介質在燒結后或者經溶液浸泡后陰柵極易形成短路的問題,提高了陰柵極耐壓特性及介質的抗腐蝕性。
附圖說明
附圖1為制作完成的場致發射顯示器下基板結構剖面示意圖。
圖中:玻璃基板1??柵極電極層2??第一感光介質層3刻蝕型介質層4??第二感光介質層5??陰極電極層6
具體實施方式
配制感光介質漿料:取3.60g的Texanol酯醇(2,2,4-三甲基-1.3戊二醇單異丁酸酯)溶劑和9.04g的高分子樹脂放入瑪瑙研缽中,同時加入4.82g的光引發劑和光敏單體。將42.00g的介質玻璃粉、0.22g消泡劑以及0.16g的表面活性劑BYK171和0.20g的BYK410混入其中,初步攪拌研磨均勻后用三輥扎機輥扎約30分鐘,使其顆粒的粒徑在1微米,黏度為18000cps。
再配制刻蝕介質漿料:將3g乙基纖維素與27g松節油透醇充分混合攪拌2小時,加入68g玻璃粉研磨輥扎。
實施例1
一種場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法,包括如下步驟:
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