[發明專利]一種場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法

無效

• 申請號: 200910022855.3
• 申請日: 2009-06-05
• 公開（公告）號: CN101577200A
• 公開（公告）日: 2009-11-11
• 發明（設計）人: 張斌
• 申請（專利權）人: 彩虹集團公司
• 主分類號: H01J9/00
• 分類號: H01J9/00;H01J9/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司
• 代理人: 徐文權

1.一種場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)在玻璃基板上依次印刷柵極電極層和第一感光介質層，在100～130℃條件下干燥10～30分鐘，得到柵極電極層厚度為10～30微米，第一感光介質層厚度10～30微米；

2)利用柵極掩膜板覆蓋第一感光介質層和柵極電極層，對第一感光介質層和柵極電極層進行一次性曝光顯影，得到柵極線條圖案；

3)使用刻蝕介質漿料在第一感光介質層上面印刷刻蝕型介質層，在100～130℃條件下干燥10～30分鐘，刻蝕型介質層厚度10～15微米；

4)對上述步驟得到的電極介質共燒，在馬弗爐中升溫速率為4～6℃/分鐘，燒結曲線為從室溫升到370～380℃恒溫20分鐘，再升到570～580℃恒溫20分鐘，后自然冷卻至室溫后取出；

5)在步驟4)電極介質共燒冷卻后，使用感光介質漿料在刻蝕介質層上面印刷第二感光介質層，厚度為10～15微米，在100～130℃條件下干燥10～30分鐘，再在第二感光介質層上面印刷陰極電極層，陰極電極層厚度10～20微米；

6)利用陰極掩膜板覆蓋第二感光介質層和陰極電極層，對第二感光介質層和陰極電極層進行一次性曝光顯影，得到陰極線條圖案；

7)對上述步驟得到的各介質層進行第二次電極介質共燒，升溫速率為4～6℃/分鐘，燒結曲線同樣為從室溫升到370～380℃恒溫20分鐘，再升到570～580℃恒溫20分鐘，后自然冷卻至室溫后取出；

8)利用陰極電極層和第二感光介質層作為掩膜，用濕法刻蝕法對刻蝕型介質層進行刻蝕，得到相互垂直的陰極圖案線條與柵極圖案線條，完成下基板電極的制作。

2.根據權利要求1所述的場致發射顯示器三重介質層下基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)在玻璃基板上依次印刷柵極電極層和第一感光介質層，在100℃條件下干燥30分鐘，得到柵極電極層厚度為10微米，第一感光介質層厚度30微米；

2)利用柵極掩膜板覆蓋第一感光介質層和柵極電極層，對第一感光介質層和柵極電極層進行一次性曝光顯影，得到柵極結構線條；

3)使用刻蝕介質漿料在第一感光介質層上面印刷刻蝕型介質層，在100℃條件下干燥10分鐘，刻蝕型介質層厚度15微米；

4)對上述步驟得到的電極介質共燒，在馬弗爐中升溫速率為6℃/分鐘，燒結曲線為從室溫升到370℃恒溫20分鐘，再升到580℃恒溫20分，后自然冷卻至室溫后取出；

5)在步驟4)電極介質共燒冷卻后，使用感光介質漿料在刻蝕介質層上面印刷第二感光介質層，厚度為15微米，在100℃條件下干燥10分鐘，使第二感光介質層干燥，再在第二感光介質層上面印刷陰極電極層，陰極電極層厚度10微米；

6)利用陰極掩膜板覆蓋第二感光介質層和陰極電極層，對第二感光介質層和陰極電極層進行一次曝光顯影，得到陰極結構線條；

7)對上述步驟得到的各介質層進行第二次電極介質共燒，升溫速率為4℃/分鐘，燒結曲線同樣從室溫升到370℃恒溫20分鐘，再升到580℃恒溫20分鐘，后自然冷卻至室溫后取出；

8)利用陰極電極層與第二感光介質層作為掩膜，用濕法刻蝕法對刻蝕型介質層進行刻蝕，得到相互垂直的陰極圖案線條與柵極圖案線條，完成下基板電極的制作。